薄膜技术中文版04溅射沉积技术.pdfVIP

薄膜技术-4 溅射沉积技术-1 溅射沉积 3.沉积 1.离子产生 2.溅射 物理气相沉积（PVD ）示意图 主要内容  气体放电与等离子体  等离子体物质的溅射现象  溅射沉积装置 什么是等离子体？ 人造等离子体：等离子体电视 人造等离子体：霓虹灯 地球上的等离子体：极光 地球上的等离子体：极光 太空中等离子体：太阳 宇宙99%物质为等离子体 等离子体的概念和特点  概念：由电离产生的正离子和电子以及中性 气体分子组成的离子化气体状物质。  特点 整体上呈电中性 良好的导电性 等离子体的分类 低温等离子：轻度电离的等离子体，离子温 度一般远低于电子温度（eg ：日光灯、溅射 沉积工艺） 高温等离子体：高度电离的等离子体，离子 温度和电子温度都很高（eg ：太阳） 等离子体的产生和维持 等离子体的产生： 气体放电：气体在电场的作用下发生电离的过程； 原理：当具有一定能量的电子与气体分子碰撞过程 中，将可能使得气体分子的外层电子丢失形成离子。 等离子的维持： 原理：等离子体中高速运动的电子与其他粒子持续 碰撞。 等离子体的产生和维持 靶 基片 等离子体的产生和维持 气体击穿 反常辉 光放电 汤生放电 正常辉光 放电 弧光 放电 汤生放电：气体击穿的初期，放电电压比较高，且随输入功率的增加 变化很小；放电电流随输入功率的增加而增加，但较小。 等离子体的产生和维持 气体击穿 反常辉 光放电 汤生放电 正常辉光 放电 弧光 放电 正常辉光放电：出现足够多的电子和离子使放电可自持，气体电导率 较大，极板间电压下降 等离子体的产生和维持 气体击穿 反常辉 光放电 汤生放电 正常辉光