光刻蚀法制备水凝胶微图案及其应用.pdfVIP

Vo1．29 高等 学校化学学报 No．2 2008年2月 CHEMICAL JOURNAL OF CHINESE UNIVERSITIES 298—30o [研究快报] 光刻蚀法制备水凝胶微图案及其应用 刘 欣 ，沈 峥 ，吴大朋 ，王 琪 ，秦建华 ，林炳承 (1．中国科学院大连化学物理研究所，大连 116023；2．中国科学院研究生院，北京100039； 3．大连医科大学附属第二医院，大连116027) 关键词 水凝胶；光刻蚀法；微图案；表面与界面 中图分类号 0652．7 文献标识码 A 文章编号 0251-0790(2008)02-0298-03 近年来，以软刻蚀为代表的新技术的发展以及微图案化材料选用的多样化使得各种微图案化表面 日益成为认识表面和界面基本现象 J，考察微尺度流体流动行为 以及发现和解决细胞生物学中各种 新问题 等研究过程中的技术平台．目前，较为通行的表面图案化方法是采用软刻蚀技术 J，通过弹 性印章将特定分子转印到基底表面，形成图案化分子涂层．该类方法虽比传统光刻法具有操作简便、 灵活、适用材料范围广以及成本低廉等特点，但用于所需的弹性印章仍需通过传统光刻工艺制备，实 施过程繁琐．采用光定位分解_5j、光接枝 及等离子体氧化 等方法制备微图案化表面，或需合成专 门试剂，或需制作特殊的漏印板掩模，不易普及．本文采用光刻技术，通过光引发单体聚合，在硅烷化 破片表面原位制备水凝胶微图案．该法简便易行，无需复杂的仪器设备和操作过程，且所制微图案具 有较好的稳定性．通过细胞微图案化和液滴微结构制备展示了该技术的实用性和潜在的应用方向． 1 实验部分 1．1 试剂与仪器 水凝胶单体丙烯酰胺(AAM)、J7、r，J7、r 一亚甲基双丙烯酰胺(BIS)、聚乙二醇二丙烯酸 酯(PEGDA)、光引发剂2，2一二甲氧基 ．苯基苯乙酮(DMAP)、硅烷化试剂3一(三甲氧基甲硅烷基)丙 基一甲基丙烯酸酯(TPM)均购自Sigma—Aldrich．所需微图形用Freehand软件设计，以商用激光照排机 (5000dpi)输出的胶片作为掩模．紫外光源采用Oriel 87436紫外光照系统．该系统配备500 W汞灯． 1．2 实验过程 (1)玻片硅烷化：将醋酸(1 L／mL)和TPM(30 L／mL)溶入95％(体积分数)乙醇水 溶液中，制得硅烷化反应液．将清洗干净的载玻片浸没于硅烷化反应液中孵育5 min，用无水乙醇冲 洗、吹干，于120 oC脱水4 h，制得表面疏水且富含双键基团的玻片．(2)水凝胶反应液的配制：所用 溶剂均为1，2．丙二醇／水溶液(体积比1／1)．丙烯酰胺反应液中单体[m(AAM)／m(BIS)=19／1]总量 为5％～8％(质量体积分数)．PEGDA反应液中PEGDA含量为5％～6％(体积分数)．将DMAP按240 mg／mL溶于J7、r-甲基吡咯烷酮，制得光引发剂储液，曝光前将其按25 L／mL配成光敏单体溶液． 1．3 光刻法制备水凝胶微图案 如图1所示，将两块经TPM处理的载玻片两端以聚四氟生料带隔开， Fig．1 Fab~cafion procedure(A)and mechanism(B)of hydrogel micropatterns 收稿日期：20074)8-20． 基金项目：国家自然科学重点项目基金(批准号20575067)及中国科学院大连化学物理研究所创新基金资助 联系人简介：林炳承，男，博士，研究员，主要从事微流控芯片研究．E-mail：bclin@dicp．ac．ca． 秦建华，女，博士，研究员，主要从事微流控芯片研究．E-mail：jhqin@dicp．ac．ca． No．2 刘 欣等：光刻蚀法制备水凝胶微图案及其应用 形成高度约100 m的反应腔；通过毛细作用将光敏单体溶液注入其中；以紫外光透过掩模照射到反 应液中，曝光数秒，在曝光区域，引发剂(DMAP)光解产生初级自由基，进而引发溶液中含双键单体以 及玻片表面的双键基团发生自由基聚合反应，从而生成共价锚联于玻片表面的图案化水凝胶涂层；先 后以丙酮及去离子水清洗玻片，去除未反应单体，制得水凝胶微图案化基片． 2 结