干涉空间相位光刻对准方法研究 research on the method of interferometric-spatial-phase for the alignment of lithography.pdfVIP

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2017-08-25 发布于上海
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干涉空间相位光刻对准方法研究 research on the method of interferometric-spatial-phase for the alignment of lithography.pdf

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干涉空间相位光刻对准方法研究 research on the method of interferometric-spatial-phase for the alignment of lithography

显徽、测量、徽细加工技术与设备干涉空问相位光刻对准方法研究马平，胡松，周绍林，徐文祥 (中国科学院光电技术研究所，成都610209) 摘要：介绍了一种适合高分辨力接近／接触式光刻的新型纳米级光刻对准方法。简要阐述了该对准方法的基本原理，探讨了应用该对准方法的光学结构设计，提出了照明光路与干涉条纹捕获光路的垂直设计，采用单色非曝光光源远心照明方式并外加补偿光路的结构设计。在软件处理方面，提出采用九点四线曲面拟合面阵CCD细分方法及最小二乘曲线拟合定位方法，实现光刻对准精度的进一步提高。该光刻对准方法能够克服现有对准技术的诸多缺陷，具有纳米级对准精度，能够满足纳米光刻的对准需求。关键词：干涉空间相位对准；莫尔条纹；补偿光路；CCD细分；曲线拟合中图分类号：TN305．7；0436．1 ResearchontheMethodof forthe of AlignmentLithography Ma Shaolin，Xu Ping，HuSong，Zhou Wenxiang (Institute and Sciences，Chengdu610209，China) ofOpticsElectronics，ChineseAcademyof new forthe resolution Abstract：Ananoscale alignmentapproachhigh proximity-contactlithogra— isintroduced．Thebasic ofthemethodwasintroduced of briefly，theoptical phy principle design the structurewasdiscussed，andvertical forthe ofilluminanceand design opticalpath capture telecentric forinterferencewere forward．Themonochrome source，the fringesput unexposure modeandthestructureofthe were termsof design optical adopted．In Iight pathcompensator theCCD ninedotsandfourlines thesoftware was that subdivision curve disposal，itproposed by andthe least curvesimu