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改性含钪薄膜阴极的研究 study of modified scandia-tungsten coated cathode
口叠透互盈塑婴翌婴
·研究与设计·
改性含钪薄膜阴极的研究
王舒墨,李季,王辉
(北京真空电子技术研究所,北京100015)
Modified
of CoatedCathode
Study Scandia—Tungsten
WANGShu-mo,LIJi,WANGHui
VacuuraElectronicsResearch 10015,China)
(Beijing Institute,Beijing
fl modifiedmethodtOmanufacture coated
Abstract:Thispresents Scandia—tungsten
paper dispenser
cathode.whichusestriodeDC to a filmontraditionalBaW cath—
Se-eontaining
sputteringdeposit dispenser
offilm
odewith insteadof method the de-
Se6WOl2+Wtarget Sc202+Wtarget.Thissimplifiesoperation
andenhancesthe and of cathodeforitneedn’tintroduce
positing stabilityconsistencycoatingSc—type oxy—
ortakeother oxidation the offilm also the
gen complicatedtechniquesduringprocess depositing.Westudy
workfunctionthis 86 current at
emission and Of cathode.It A/cm2 a cathode
property provides density
of1000℃,whichshowsexcellentemission
temperature capability.
words;Sc6W012十W,Scandia,Cathode,Sputtering,Coating
Key
法不需要在覆膜过程中通入氧气或采取其它的复杂氧化工艺,不仅简化了操作也提高了阴极制备的稳定性和一致性。本文
研究了这种阴极的发射特性和功函数分布情况。这种阴极在1000℃时能提供86A/cm2的发射电流密度,表现出良好的发射
性能。
关键词:Sc6W012.钪;阴极;溅射;覆膜
中图分类号:0462 文献标识码:A 文章编号:1092--8935【2012)03--0008--05
随着通讯和信息技术的高速发展,对微波真空 膜沉积技术研制铳系阴极是一种方便
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