第一章真空.pptx

第一章 真空技术基础;1.1 真空的基本知识;1.1 真空的基本知识;1.1.1 真空定义（3种说法）;3，就真空使用者的目的而言，只要该空间的气体可以忽略不计，就可以认为是真空了。;3，指定空间内，低于一个大气压的气体状态（科学概念）用气压表示空气的稀密程度。;1.1.1 真空定义（3种说法）;1.1.2 真空度量单位;1.1.4 气体和蒸汽;1.1.4 气体和蒸汽;1.2 稀薄气体性质;1.2.2 气体分子的速度分布;平衡态下微观粒子的三种速率:;1.2.2 气体分子的速度分布;1.2.3 分子运动的平均自由程;3，碰撞截面:;;值得强调的是，上述 针对的是气体分子之间的碰撞，而分子与器壁之间的碰撞则不能使用此概念。一般容器尺寸多为10～100 cm，当气压为1.33×10-4 Pa时， =5000 cm，远远超出分子直线运动的距离，故 在物理上并未能实现。实际实现的只能是与器壁碰撞形成的“自由程”。即是容器的有效线度，数值上d=10～100 cm，与p，n无关。;;单位时间碰撞于dA的总分子数，只需对立体角dΩ积分（dΩ=sinθdθdφ）： 单位时间内，碰撞到单位面积的气体分子数： 其中，n是气体分子浓度（m-3）， 是分子运动的平均速率。上式即赫兹-克努曾（Hertz-Knudsen）公式，是描述气体分子热运动的重要公式。考虑到p=nkT，k=R/NA，得： ;1.2.5 分子从表面反射（余弦定律）;1.2.6 真空在薄膜沉积中的意义;1.2.6 真空在薄膜沉积中的意义; 在基板表面上，如果撞击过来的残存气体分子全部吸附在物体表面上，把它换算为厚度堆积速度的话，大约是每分钟10～30 nm。;1.2.6 真空在薄膜沉积中的意义; 想要得到高纯度的薄膜，就必须尽量在较高真空度的环境下，或是在不会与薄膜材料产生反应的氩气等的惰性气体中进行。 相反的，也有故意让原料气体和其它气体发生反应而产生新的性质优良的材料的情形，这种称为反应性溅镀或是反应性蒸镀。;1.3 真空的获得（真空泵）;;2014-3-13;2014-3-13;;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13;2014-3-13