缓冲剂在电镀镍中的作用机理研讨.pdfVIP

采用摘形孔滚捅结构，槽形孔滚桶的特点是滚桶上 能 这涉及生产厂家的专有技术.不宜公开。 原来的小m孔改为长洁形孔，这是一种最简单的改 经过用上述方法对滚铺作些必要的改进，并选 进 若有必要还可以把原来的平面面壁改为v或八 用优质的滚镀深孔镍光亮剂及深镀剂 并严洛技术 5或波浪m1等，采用#e形孔，则孔的面积由原来的 管理 以5”电池壳体为例.滚镀2小时左右即可。 只占桶壁面积1/5提高到 1/a以to 参考资科 对于电池外壳的滚镀光亮镍.在滚桶内部、还 1.洪铭 深孔该镍工艺及其添加剂.电忱与徐料.1996:4 要采用一些辅助措施，以保证另件的良好滚动性 缓冲剂在电镀镍中的作用机理研究 山东大学环境工程来，山东，济南((250100) 高灿柱 鹿玉理 刘汝涛) 摘要 本文利用循环伏安法研究了Watts艘镇液中it离子的电沈积过程，对循环伏安图土的电流峰给 予了合理的解铎。三种缓冲荆翎酸、蜡酸和氛化按对恢的电沉积速度有显著的影响。缓冲剂浓度在0.01- 0.05M范围内，随着缓冲荆浓度的增加 镶的沉积速度显著增加。当缓冲荆浓度大于0.1M时，随着缓冲荆浓 度的增加，铁的沉积速率几乎不再11 。缓冲荆加大镶沉积速度的主要原因是 通过控制电极表面附近的pH 值 使之形不成阻碑裸离子沉积的氢氮化镶沉沈。 关键词 电镀镍 缓冲荆 循环伏安 一、前言 生器做出. 电镀镍是量大面广的镀种.它作为镀铬、贵金 三、结果 属、仿金、枪黑、黑镍的底层 用途非常广!’、。在镀镍 当对Watts镍电解液 (lmol/l,NiSO,。.2..l/ 过程中 氢离子和镍离子在阴极上竞争还原，使得阴 LNiCL2.0.5mol/l,H,BO)在电位区间一1.63 一 极附近溶液的pH高于本体溶液。当镀液的pH较低 +1.63V(vs.SCE)以33mV/s的扫描速率进行电位 时，氢离子还原较多，电流效率降低。当镀液的pH 扫描时得到循环伏安图1(实线)其巾有两个阳极 较高时，易形成氢氧化镍沉淀而彩响镀层质负。即使 峰a，。。和两个阴极峰cc,。通过参考文献仁6.7] 在镀液pH是3-5的情况下.当无缓冲剂或搅拌强 阳系统研究确定、a.和。.分别是抓离子的氧化峰和 度不够或电流密度太大时川，在阴极附近也会形成 械分子的还原峰;。.是镀液中镍离子还原峰;。。是 氢氧化镍沉淀。因此 在镀镍过程中 缓冲剂起着非 电沉积出的金属镍的氧化峰。当镀液中无硼酸时得 常重要的作用。工业上一般采用硼酸作为电镀镍镀 到循环伏安图 I(虚线)。结果和有硼酸时大不一 液的缓冲剂。JamesP.Ho- 认为:硼酸不仅起着 徉，有ADl酸时的I19个峰都未出现。为了使实验结果更 缓冲剂的作用，而且是电沉积镍的催化剂。本文采用 接近于实际电镀情况.我们又作了电位区间一1.20} 循环伏安法研究了硼酸飘化按和醋酸三种缓冲剂对 +I.M m SCE)的循环伏安图、见图2.。虚线是无 电镀镍的影响。这方面的研究国内外未见报导。 硼酸时的循环伏安图.实线是加入 。.SM 硼酸时的 二、实验方法 循环伏安图。从图2.可以看出，加入硼酸可大大提 实验使用的电解液用分析纯的试剂和三次蒸馏 高镍的沉积速度。图3.表明了缓冲剂浓度对镍电沉 水配制，基础 电解 液的成 分是 Imol/I.NiSO、加 积速率的影响.在缓冲剂为。.01一。.05- 1/1，的低 0.2m.1/1,NiCi.i,实验在298士1K,pH=2.03. 浓度区.随着缓冲剂浓度的增加镍的沉积速率增加 200ml的单室电解池中进行。工作电极为铂电极，其 很快，并且，三种缓冲剂对镍沉积速率的影响几乎相 面积为 。AM .辆助电极采用大面积铂电极，以 同。当缓冲剂浓度大于。.Im