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第38卷 第8期 激光与红外 V01．38．No．8
2008年8月 I■SER＆ INFRARED Aug岫t，2008
文章编号：1001．5078(2008)08聊89JD3 ·红外材料与器件·
增黏剂(HMDS)在锑化铟光刻工艺中的应用
郭 喜
(华北光电技术研究所，北京100015)
摘要：介绍了增黏剂(HMDs)的物化性质及其在光刻工艺中的作用，并且通过实验研究将增
黏剂应用于锑化铟材料的光刻工艺，改善了锑化铟的表面状态，增强了锑化铟衬底与光刻胶的
黏附性，进而在湿法腐蚀等后续工艺中提高了光刻胶的抗腐蚀性。
关键词：增黏剂(HMDs)；锑化铟；光刻工艺；光刻胶；黏附性；抗腐蚀性
中图分类号：TQ437+．9文献标识码：A
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Application LithographyTechnology
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1 引 言 本文将增黏剂在锑化铟衬底上进行实验研究，
光刻工艺在半导体制造过程中是至关重要的一 得到了光刻胶在锑化铟衬底上黏附性增强的结果，
个工艺环节，黏附性是光刻胶的一个重要表现要素， 并且在后续湿法腐蚀工艺中验证了其具有更好的抗
描述了光刻胶黏附于衬底的强度。光刻胶必须黏附 腐蚀性。
于许多不同类型的表面，包括半导体材料、二氧化硅 2性质与作用
和不同的金属，光刻胶黏附性不好会影响在后续工 在光刻工艺中所用到的光刻胶绝大多数是疏水
艺中的抗蚀性。 的，所以对于光刻胶的黏附性，具有干燥成疏水性的
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