轰击能量对离子束辅助磁控溅射沉积Cr-N薄膜断裂韧性的影响.pdfVIP

第15卷第10期 中国有色金属学报 2005年10月 ofNonferrousMetals oct． 2005 V01．15No．10 TheChineseJournal 文章编号：1004—0609(2005)10—1520—06 轰击能量对离子束辅助磁控溅射沉积Cr—N薄膜 断裂韧性的影响① 田林海h2，宗瑞磊1，朱晓东1，唐宾2，何家文1 (1．西安交通大学金属材料强度国家重点实验室，西安710049． 2．太原理工大学表面工程研究所，太原030024) 摘 微镜(AFM)和x射线衍射表征薄膜的组织结构，讨论了轰击能量对Cr-N薄膜组织、晶粒度以及硬度和断裂韧性 的影响。结果表明：随离子束辅助轰击能量的升高，Cr-N薄膜由粗大的柱状晶变为细小的晶粒，当轰击能量达到 1 能量升高呈现相同的变化趋势，这些表观大颗粒是由许多小的亚晶块聚集而成。进一步用x射线衍射谱形分析表 明：随轰击能量从0V升高到800V时，亚晶块的尺寸逐渐减小；到800V时，晶块尺寸约为9nm，但当能量升到 1200V时，晶块尺寸反而增大，这是由离子束辅助轰击导致的两种不同机制而引起的，一种是离子轰击导致的喷 V增加800 丸碎化作用，而另一种为热效应引起的晶粒长大；当轰击能量从0 V时，薄膜的硬度和断裂韧性都显 200 著提高，与晶粒度的减小有关；而到1 V时，晶粒度较未辅助略大，但却具有很高的硬度以及较高的断裂韧 性，说明硬度和断裂韧性的提高还与离子束轰击导致薄膜的致密化增加有关。 关键词：离子轰击；晶粒度；硬度；断裂韧性 中图分类号：TGl74．44 文献标识码：A Effectofionbombardmentonfracture ofCr-N toughness ionbeamassisted coatingsdepositedby magnetronsputtering TIANLin—hail’2，ZONGRui—leil，ZHU Bin2，HEJia—wenl Xiao～don91，TANG (1．State forMechanicalBehaviourofMaterials， KeyLaboratory Xi’an 710049，China； JiaotongUniversity，Xi’an 2．ResearchInstituteofSurface Engineering， of 030024，China) TaiyuanUniversityTechnology，Taiyuan Abstract：Cr-Nfilmswere low ionassisted microstruc～ depositedby energy magnetro