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分光光度法检测半导体工业用水中痕量硅 　　【摘要】硅酸盐在酸性介质中与钼酸铵反应生成硅钼黄，硅钼黄还原为硅钼蓝后，可被HLB小柱定量萃取。在此基础上，建立了流动注射固相萃取分光光度(FISPEVis)测定水中痕量硅酸盐的新方法。反应生成的硅钼蓝经HLB小柱萃取后，用水清洗去除杂质，NaOH溶液洗脱，分光光度法检测。实验对各参数进行了优化，优化后的参数为：洗脱剂浓度/L;试样上柱流速/min;洗脱流速/min;反应温度45;硅钼黄与硅钼蓝反应时间均为5min;钼酸铵混合溶液、草酸溶液、抗坏血酸溶液的用量分别为，和。本方法具有良好的重现性和灵敏度，测定含硅μg/L的硅酸盐水样7次，RSD值为%;选取不同的试样富集时间，可将定量分析的线性范围扩展为～117μg/L;检出限μg/L;回收率为%～105%。可满足特殊工业用水中痕量硅检测的需要。 　　1、引言 　　工业用水中的硅含量若超出允许范围，将对产品产生不良影响，甚至造成严重事故。例如，可溶性硅浓度是火力发电厂、试剂厂、半导体厂等用水质量的重要控制指标之一。半导体工业用水的硅浓度限制在1μg/L以下[1]。水中的可溶性硅主要以硅酸形式存在，经典的测定方法为硅钼蓝分光光度法。该法检出限较高，不能满足工业用水中硅的检测要求。近年来新的检测方法相继出现，包括改进的硅钼蓝法[2,3]、碱性染料分光法[1,4]、动力学光度法[5,6]、鲁米诺化学发光法[7,8]、荧光法[9,10]、电化学法[11]以及原子光谱法[12,13]等。这些方法，或灵敏度达不到要求，或干扰严重，实验操作要求高，均未得到广泛应用。 　　本研究以流动注射分析(FI)技术控制分析过程，将硅钼蓝富集在HLBTM固相萃取(SPE)小柱上，以少量NaOH溶液洗脱，由可见分光光度计在线检测，由此建立了流动注射固相萃取分光光度(FISPEVis)测定水中痕量硅酸盐的新方法。 　　2、实验部分 　　仪器和试剂 　　732PC型可见分光光度计(上海光谱仪器有限公司);FIA3110型流动注射分析处理仪(北京吉天仪器有限公司);HH1型数显恒温水浴锅(金坛市顺华仪器有限公司);OasisHLB小柱(美国Waters公司)。实验器皿用HCl(14,V/V)浸泡10min后，用纯水清洗。蠕动泵管为硅橡胶管，流路管道为PTFE管，实验器皿均为非玻璃材质器皿。试剂均由MiliQ纯水机(美国Millipore公司)制备的纯水(Ω·cm)配制。硅标准溶液(100mg/L(以SiO2计)，国家标准物质研究中心);/LH2SO4(优级纯，广东汕头化学试剂厂);钼酸铵(分析纯，国药集团)混合溶液：称取(NH4)6M7O24·7H2O溶于50mL水中，将此溶液缓慢地加入到50mLH2SO4中;100g/L草酸(分析纯，广东汕头市西陇化工厂)溶液;28g/L抗坏血酸(分析纯，国药集团)溶液。/LNaOH(优级纯，上海山海工学团实验二厂)贮备液;/LNaOH使用液;无水乙醇(分析纯，国药集团)。 　　1.钼酸铵混合溶液(Ammoniummolybdate);2.草酸溶液(Oxalicacid);3.抗坏血酸溶液(Ascorbicacid);4,6,;5.无水乙醇(Ethnaol);;V1.八位阀(8Positionvalve);V2.八通阀(8Portrotoryvalve);P1，P2.蠕动泵(Pump);Rc.反应瓶(Reactioncontainer);D.检测器(Detector);W.废液(Waste)。实线阀位(Valvepositioninrealline)：Inject;虚线阀位(Valvepositionindashedline)：Fill。实验方法与流动注射分析流路图 　　流动注射分析的流路见图1。流动注射分析程序列于表1。量取100mL试样于聚乙烯瓶中，运行步骤：(1)P1泵将钼酸铵混合溶液送入反应瓶Rc中;(2)瓶中的硅酸与钼酸铵反应生成硅钼黄;(3)反应5min后，草酸溶液与抗坏血酸溶液被P1泵先后泵入反应瓶中;(4)所有试剂加毕，试液在45水浴中反应5min;(5)乙醇与水依次被P1泵过HLB小柱，清洗小柱并预冲洗管道;(6)启动P2，试液以/min的流速通过HLB小柱，其中的硅钼蓝被萃取;(7)水清洗小柱;(8)吸附在HLB小柱上的硅钼蓝被/LNaOH溶液以/min的流速洗脱，流经2mm()×2cm的流通池，由分光光度计于810nm处测定吸光值。该信号被计算机连续采集，每记录1个数据，以洗脱曲线的形式输出。洗脱曲线峰高处的吸光值，即试样中活性硅定量的依据。为防止小柱长期浸泡于碱性洗脱剂，洗脱完毕需用水反向清洗小柱。表1流动注射分析程序及阀位 　　3、结果与讨论 　　检测波长的选择 　　取适量水样加试剂反应