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氧化钛光催化材料及其在陶瓷中应用 　　摘 要：氧化钛具有活性高、稳定性好、无毒和成本低等优点，是目前研究最为广泛的光催化剂之一，也是最有可能制备成光催化陶瓷的材料。本文就TiO2光催化机理、光催化活性的影响因素、纳米TiO2的制备、纳米TiO2的相变、TiO2光催化材料的应用及光催化陶瓷的研究进展进行了综述。 　　关键词：氧化钛；光催化；陶瓷；应用 　　1 引言 　　自从1972年日本学者Fujishima和Honda发现在半导体TiO2电极上能光催化分解水制备氢气以来[1]，TiO2光催化技术引起了科技工作者极大的关注[2-9]。随后1976年，加拿大科学家等研究发现在紫外光照射下，纳米TiO2可使难降解的有机物联苯及氯化联苯分解[10]。随着能源和环境问题的日益突出，半导体光催化技术受到广泛的重视，并取得迅速的发展[11-14]。目前，广泛研究的半导体光催化剂多为n型半导体化合物[12， 15-21]，如：TiO2、ZnO、CdS、ZnS、MoO3、WO3等。其中，TiO2以催化活性高、稳定性好、无毒以及成本低等优点而倍受青睐[22-26]。TiO2具有降解有机污染物、净化空气、抗菌和自清洁等方面的应用潜能[11-13]。但由于TiO2的禁带较宽和难以牢固负载在载体上等关键技术难题，其发展和应用受到严重制约[13， 27-29]。 　　TiO2光催化材料是利用禁带较宽具有的较强的氧化还原能力，将有害的物质分解。它在玻璃、陶瓷、纺织材料等方面的应用近年来倍受人们的关注，已成为国际上的一个研究热点[30-36]。其中，光催化陶瓷具有安全、无毒、抗菌、除臭、自清洁等功能，在污水处理、废气净化、防雾、自清洁、抗菌等方面具有广阔的应用前景。 　　目前，TiO2光催化陶瓷的制备方法一般是将TiO2光催化剂或以TiO2为主的光催化剂以喷、涂、镀等方式覆膜于陶瓷表面上，再通过二次热处理制备而成的[30-34]。其中，最常用的是TiO2溶胶涂膜的方法[31]。这些喷、涂、镀覆膜的热处理温度一般低于800 ℃，目的是使得TiO2以具有较强光催化能力的锐钛矿相存在于覆膜中。但正是由于热处理温度较低，且没有高温液相出现，使得玻璃或陶瓷表面上的光催化涂层的附着性能较差，在使用过程中容易磨损、脱落，使得光催化能力降低[37-40]。提高热处理温度，增加光催化涂层和基材之间的附着力是提高其耐磨性和使用寿命的有效方法[28， 41]。但具有较高光催化性能的锐钛矿相TiO2是亚稳定相，在高温热处理下极易不可逆地转换为光催化能力较弱的金红石相，解决这一矛盾是制备TiO2光催化陶瓷的关键[32， 33]。 　　2 TiO2光催化机理 　　TiO2具有半导体材料的结构和特性是其能作为光催化剂的主要原因。一般半导体的能带结构由一个充满电子的最高价带VB及没有充满电子的最低导带CB构成，中间隔以禁带。当光子的能量hν大于或者等于半导体的禁带宽度Eg时，半导体吸收光子能量，在导带上形成光生电子e-，相应在价带上形成光生空穴h+。由于半导体的能带间缺少连续区域，电子-空穴对一般有皮秒级的寿命，足以使光生电子和光生空穴向吸附在半导体表面的物质转移。处于激发态的光生电子和空穴有两种可能的路径，一种是参与光催化反应：空穴夺取表面被吸附物质的电子，使原来不吸收光的物质被活化并被氧化，而电子受体可以捕获催化剂表面的电子而被还原；另一种是光生空穴和电子发生复合，产生的能量以热或光的形式散发，其具体激发过程如图1所示[42]。 　　当TiO2吸收能量足够高的光时（波长通常小于385 nm），将产生电子-空穴对，电子-空穴对可通过体相复合、表面复合或把能量转移给吸附在表面的有机分子而失活。一般而言，TiO2的光催化离不开空气和水溶液，这是因为氧气或水分子与光生电子或空穴结合可产生化学性质极为活跃的超氧离子自由基（?O2-）和羟基自由基（?OH）。光催化反应过程较为复杂，一般认为有两种可能：一种是认为电子-空穴对直接与反应物发生作用，即直接反应机理；另一种认为电子-空穴对通过生成自由基将各种有机物氧化为CO2和H2O等无机小分子，即自由基间接反应机理。 　　其中，自由基间接反应机理可用以下的反应式表示[43]： 　　TiO2+hν→TiO2+h++e- 　　H2O+h+→?OH+H+ 　　OH-+h+→?OH 　　O2+e-→?O2- 　　H2O+?O2-→?OOH+OH- 　　2?OOH→O2+H2O2 　　?OOH+H2O+e-→H2O2+OH- 　　H2O2+e-→?OH+ OH- 　　3 TiO2光催化活性的影响因素 　　从光催化机理可以看出，要提高光催化活性，必须提高光催化的量子效率，即抑制光生电子-空穴对的复合，提高电子-空穴对参与反