氧化锌银双层膜负反馈阴极电极制备及性能研究.docVIP

氧化锌银双层膜负反馈阴极电极制备及性能研究 　　摘要：提出了一种可显著改善碳纳米管(CNTs)场致发射性能的Zn0／Ag双层膜负反馈阴极电极的制备方法，在条形银电极上溅射沉积一定厚度的Zn膜，经热氧化和湿法刻蚀制备成zn0／Ag双层膜电极，同单层的Ag或氧化铟锡电极相比，该电极不仅具有足够的负反馈电阻(限流电阻)阻止CNTs场发射中过流的发生，而且降低了条形阴极电极的线性电阻，确保了场发射的均匀性，当溅射沉积zn膜的厚度从40 nm增到120 nm时，热氧化形成的zn0由孤岛状的颗粒变为连续体的薄膜，zn0／Ag双层膜电极的表面光洁度比单层的Ag电极有很大的提高，负反馈电阻层的电阻增大，负反馈的能力增强，CNTS薄膜阴极场发射特性曲线证明，Zn0／Ag双层膜电极能明显降低场发射电流的波动，有效提高器件的稳定性和寿命。 　　关键词：阴极电极；磁控溅射；碳纳米管；场发射 　　中图分类号：TFl38；0484，11文献标识码：A文章编号：0253－987x(2007)12－1470－04 　　 　　在碳纳米管(CNTs)场发射显示器件中，阴极电极起着关键的作用，例如，有负反馈电阻(或限流电阻)层的阴极电极能避免过流烧毁cNTs，提高器件发射电流的稳定性，表面光滑的阴极电极能明显提高器件的发光均匀性和寿命，目前，CNTs场发射的阴极电极主要是以单层的厚膜或薄膜电极为主，如银电极、硅片和氧化铟锡(ITO)电极等，然而，单层的银电极是通过丝网印刷技术在玻璃衬底上印刷条形银浆，经高温烧结和抛光而成，制备工艺复杂，成本较高，并且银电极的电阻很低，基本没有能力限制过流的发生，容易导致发射体烧毁和电流波动，硅和ITO薄膜条形电极虽然具有足够的电阻能阻止过流的发生，但很高的线性电阻在场发射中会产生不容忽视的电压降，这将导致各像素点发射电流的大小不一和发光的不均匀。 　　本文针对以上单层膜阴极电极在碳纳米管场致发射中存在的问题，提出了一种ZnO／Ag双层膜结构的负反馈电极，实验证实，该电极具有相对平滑的表面、低的线性电阻和高的负反馈电阻，能有效地改善CNT阴极场发射的均匀性和稳定性。 　　 　　1　实验 　　 　　1.1　zno／Ag双层电膜电极的制备 　　ZnO／Ag双层膜阴极电极的制备主要包括以下3个步骤。 　　(1)在浮法玻璃基底上制备条形Ag电极，首先对基底进行严格的清洗，把洗涤剂清洗后的玻璃置入丙酮和乙醇溶液中分别超声处理lO min，用去离子水冲烘干，然后采用丝网印刷工艺在基底上印刷条形Ag浆图形，烘干后烧结，最后打磨形成表面平整的条形Ag电极。 　　(2)采用直流磁控溅射工艺在阴极Ag电极上沉积Zn膜，经热氧化形成ZnO／Ag双层膜，为了提高双层膜之间的粘附力，Ag电极首先需要用丙酮、去离子水和无水乙醇清洗后烘干，再经进样室送入沉积室，并在Zn膜沉积前进行等离子清洗，Zn膜溅射沉积采用纯度(质量分数)为99.9％的Zn靶，溅射过程中，沉积室中氩气气压为2.8 Pa，功率为400 W，沉积速率为1.1×1010～1.4×1010 m／s，把溅射沉积的Zn／Ag双层膜置人烧结炉中，在大气条件下590℃热氧化150 min，即可形成ZnO／Ag双层膜。 　　(3)采用类似于传统光刻技术的湿法刻蚀工艺对ZnO／Ag双层膜进行刻蚀，制备所需要的条形负反馈电极，首先用对准器对电极进行高精度对准，把耐酸的油墨通过丝网印刷技术印刷到银电极的正上方，150℃烘焙2 h，形成湿法刻蚀的掩膜，随后，把印刷掩膜的ZnO／Ag双层膜极板放入80℃的复合酸(HCl、HN)3和H20的体积比为3:3:10)溶液中刻蚀2 min，用NaOH溶液清除掩膜和中和酸残液，再用去离子水清洗即可。 　　 　　1.2　zno／ng双层膜电极性能的表征 　　选用奥林巴斯激光扫描电镜(日本，OLS3100)和万用表分别对ZnO／Ag双层膜条形电极的表面形态和线性电阻进行测试分析，场发射特性测试采用二级管结构，以印刷CNTs薄膜的ZnO／Ag双层膜电极作为阴极，涂有荧光粉的ITO玻璃作为阳极，阴极板和阳极板的间距为150 gm，其中CNTs阴极薄膜制备的详细工艺见，场发射测试台的背景真空度为1×lO6Pa。 　　 　　2　实验结果讨论 　　 　　2.1　zno／ng双层膜的表面形态 　　 　　图1 2种不同结构电极的奥林巴斯激光扫描电镜照片 　　图1是2种不同结构阴极电极的奥林巴斯激光扫描电镜表面形态照片，从图la中可以看出，Ag电极的表面凸凹不平，最大的凹槽深度可达近3 υm，图1b～图1d是不同厚度的Zn膜在同一厚度的Ag电极上经热氧化形成ZnO／Ag双层膜负反馈电极的表面形态，从图中可以看出，随着溅射沉积Zn膜厚度的增加，烧结后形