磁流变抛光机床数控系统关键技术研究-机械制造及其自动化专业论文.docx

Classified Index：TH161 U.D.C.：621.923 Dissertation for the Doctoral Degree in Engineering RESEARCH ON KEY CNC TECHNIQUE OF THE MAGNETORHEOLOGICAL FINISHING MACHINE TOOL Candidate: Sun Xiwei Supervisor: Prof. Dong Shen Associate Supervisor: Prof. Zhang Feihu Academic Degree Applied for: Doctor of Engineering Speciality: Mechanical Manufacturing and Automation Affiliation： School of Mechatronics Engineering Date of Defence: June 2006 Degree-Conferring-Institution: Harbin Institute of Technology 摘 摘 要 - -Ⅰ- 摘 要 磁流变抛光是国外近年来新兴的一种光学表面超精密加工技术。它将电磁 学、流变学、化学综合作用于光学加工中，可以实现对光学器件的高效精密抛 光，是获得超光滑光学表面的理想工艺之一，目前已经被应用于对平面、球面、 非球面的超精密加工，可加工材料范围涵盖了光学玻璃、微晶玻璃、光学晶体 等多数光学材料。磁流变抛光机床是实现磁流变抛光技术的重要基础设备，本 论文结合“纳米级超光滑表面磁流变加工新技术研究”的课题，开发了磁流变 抛光机床数控系统，并对其诸如面形控制、轮廓控制、伺服控制及插补算法等 关键技术进行了比较深入的研究。 本文首先综述了国内外磁流变抛光技术和数控系统的发展状况，对数控系 统及超精密机床控制策略的发展和研究状况进行了总结。然后根据磁流变抛光 机床的结构和运动方式，从工程实际应用出发，分析了磁流变抛光机床数控系 统的功能和任务，研制了一套基于 PC 的具有开放式体系结构的数控系统，同时 针对磁流变抛光的特点，提出了磁流变抛光数控系统的轨迹控制插补算法，运 用该算法可对非球面等适用于光学通用方程表示的回转对称曲面进行磁流变抛 光加工。 磁流变抛光机床的伺服进给系统，在很大程度上决定了机床的加工精度、 表面质量和生产效率。本文以磁流变抛光机床的伺服进给系统为研究对象，通 过对伺服进给系统的结构分析，建立了伺服进给系统的传递函数模型，并运用 频域建模的方法得到了系统模型参数。在综合考虑系统的跟随误差、伺服刚度、 干扰抑制等因素后，设计了 PID 位置控制器。为改善系统的跟踪特性，在系统 传递函数模型基础上设计了速度、加速度前馈控制器，提高了单轴位置跟踪能 力，仿真实验结果表明位置跟随误差减小了一个数量级。为补偿系统中振荡模 态的影响，设计了陷波滤波器，提高了系统的相对稳定性。 超精密机床伺服系统的轮廓控制精度直接决定着所加工的光学表面的面形 精度。理论分析结果表明机床的轮廓误差受机床的进给速度、加工曲面形状、 伺服系统的动态特性及各联动轴的参数匹配程度的共同影响。因此，仅靠保证 哈尔滨工业大学工学博士学位论文 哈尔滨工业大学工学博士学位论文 - - Ⅱ - 单轴的控制精度也很难达到磁流变抛光加工的轮廓精度要求。为此，本文在对 超精密机床典型加工轮廓分析的基础上，根据磁流变抛光加工光学表面的特点， 建立了磁流变抛光机床在两轴联动和三轴联动时的轮廓误差模型。针对磁流变 抛光三轴联动的特点，根据建立的轮廓误差模型，提出了一种适合于磁流变抛 光的三轴预补偿交叉耦合控制器。仿真实验结果表明，在跟踪圆弧轮廓时，采 用该控制器可使轮廓误差由 0.045mm 减小到 0.006mm，证明采用该控制器能有 效地减小轮廓误差，提高磁流变抛光机床零件加工的面形精度。 磁流变抛光时，材料去除量的多少与驻留时间有关，通过调整各点驻留时 间可以控制光学器件表面的去除量，达到面形误差修正的目的。本文在分析了 加工参数对磁流变抛光的影响和磁流变抛光面形控制原理的基础上，分析和探 讨了几种卷积反演方法，根据实测的去除函数，提出了磁流变抛光驻留时间算 法，同时研究了计算次数、去除系数和最小面形误差的关系，仿真结果表明， 利用该算法可以使球形表面面形误差收敛至十几个纳米。最后利用该驻留时间 算法对平面和球面 K9 光学玻璃试件进行了磁流变抛光实验，获得了表面粗糙度 Ra0.636nm 的球形表面，面形精度 P-V 值由抛光前的 158.219nm 提高到 52.14nm。 关键词 磁流变抛光；数控系统；伺服控制；轮廓控制；驻留时间 Abstra