显示技术基础11OLED器件制备工艺与工作特性科目讲解.pptVIP

显示技术基础;课程介绍;课程内容安排;教材：;OLED显示技术 —OLED器件制备工艺与工作特性;有机发光二极管制备工艺;OLED器件的典型结构及制作工艺流程;1. 小分子OLED制造工艺;Full layers of cathode, anode, organic molecules Thin Film Transistor matrix (TFT) on top of anode Internal circuitry to determine which pixels to turn on/off Less power consumed than PMOLED Used for larger displays;（1） 基片的清洗和预处理; ITO基板清洗 ? 化学清洗法 清洗剂：乙醇、丙酮、氯仿、四氯化碳等。 作用：去除油、润滑脂、脂肪及其它有机污染物。 ? 超声波清洗 作用：去除不溶性污物。 ? 真空烘烤法 方法：在真空室（真空度为10-4Pa）中，将基片加热至200?C。 作用：去除基片表面吸附的气体和杂质。;? 超声波清洗法 超声波清洗是利用超声波技术，使水和溶剂发生振动，清洗表面复杂的附着物而且不损伤基片的一种清洗方法。目前，超声波清洗广泛应用于OLED器件制作的前清洗工艺当中。 超声波的基本原理是空化作用：存在于