采用高效物化生化组合工艺处理高浓度化学制药废水之我见.docVIP

采用高效物化生化组合工艺处理高浓度化学制药废水之我见.doc

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PAGE PAGE 1 采用高效物化生化组合工艺处理高浓度化学制药废水之我见   【摘要】随着改革开放的不断深入,我国化学制药工业发展迅速,同时产生了一些浓度较高的化学制药废水,这些废水的产生对人类生活的环境造成了污染,如果对这些废水不进行及时处理,将对人类健康造成威胁。现阶段高浓度化学废水的排放已经引起社会各界的广泛关注,就此问题文章探讨了高浓度的化学制药废水的排放特点,研究了物化和生化组合工艺的处理方式,其中包括:絮凝、水解酸化、UBF、微电解、气浮、生物接触氧化等处理工艺。根据实验研究结果表明,经过这些工艺加工后,排放的废水各项指标均达到了我国有关《污水综合排放标准》中I级排放标准,同时处理废水的成本较低,运作过程比较稳定。   【关键词】物化生化;组合工艺;处理高浓度废水;方法   我国化学制药废水的主要来源在于原料药的制作过程,在这些废水中含有机物、废碱、废酸、部分金属等。由于在制药的过程中工使用多种化学用品,因此导致反应复杂、转化效率不理想,很多半成品甚至个别成品随废水排除,使周围的生态环境严重受到影响。因此,化学制药废水在排放时一定要进行处理,处理后达到国家有关污水排放规定后,方可进行排放。   1.化学制药废水的排放标准以及水质水量   化学制药废水中主要的污染物质主要体现为COD值,并且其数值一般大于10000mg/L。废水产生的原因主要来自反应过程中工艺水、冲洗地面、设备的水,设备循环水以及生活废水等综合排放,这些废水中除了有高COD特性外,还含有SS等杂质。下图为废水的水量、水质排放标准。   表1废水的水量、水质排放标准   2.物化生化组合工艺处理流程和说明   化学制药的废水特点为,COD较高,同时生化性极差。为了加强废水的生化性,一定要安装酸化水解池,废水经过水解酸化池后,可以将废水中难以生化的长链复杂有机物转化成可以生化的简单有机物。同时,安装微电解装置,这样可以清除大量的COD,同时可以加强废水的生化性,为后续的好氧处理奠定基础。由于化学制药废水中所排放的COD极高,所以一定要使用厌氧的处理工艺,这是非常重要的,工程中所使用的厌氧反应器为UBF。UBF反应器是由升流式厌氧污泥床(UASB)与厌氧过滤池(AF)所构成的复合式厌氧反应器,其具备这两种反应池特点的新型厌氧反应器,它突破了UASB污泥颗粒难以形成导致不能启动的缺点,融合AF抗冲击良好的负荷特点,并且降低了UASB气体、固体、液体互相分离的性能要求。UBF反应器具备的特点有:处理效率高、启动迅速、操作稳定。UBF这种厌氧反应器使用的处理工艺是中温度厌氧,其控制温度一般为31-37℃;pH值的控制范围一般在7.0到8.5之间。UBF这种厌氧反应器的填充物为空心纤维球。   3.重要的构筑物   调节水解池。水力在调节水解池中的停靠时间为24小时,调节水解池中的填充物一般铺设为软性D-2型物料。   微电解设备。微电解设备的一般规格为:Φ400×3500,水利在微电解设备中的停靠时间一般为1.5小时。   反应絮凝罐。这种反应罐的基本规格一般为:Φ1500×2000,罐内设有搅拌设备,以及絮凝剂硫酸铁与氢氧化钠,pH值约为8.5左右,水力的停靠时间大约为1小时左右。   沉淀竖流罐。其规格一般为:Φ2000×4000,沉淀所需的时间一般为1小时。   中间水罐。其规格一般为:Φ1800×1800,罐内设有加热管。   UBF厌氧反应器。该反应器的规格一般为:Φ4500×4500,水力的停靠时间一般为19小时,pH值的控制范围一般在7.5-8.5之间,水温为31到37℃。   氧化接触罐。该罐的规格一般为:Φ4000×4000,罐内铺设的填充物为软性,水力的提高靠时间一般为12小时。   气浮反应装置。该反应装置的规格选取可以根据污水排放量而定,水力的停靠时间一般为小时。   4.调试和设备运行状况   4.1对设备进行改造和完善   污水的处理设备要随着时代的进步而不断改革、创新。为了使废水的处理更加有效,首先要建设一个微电解装置,从而解决了废水不能与电解质接触的局面;其次对UASB内部的分离器进行完善,以及UBF厌氧反应器的水系统进行完善;最后替换絮凝剂,用硫酸铁代替传统的氯化铝聚合物(PAC),并将PAC用在气浮反应装置中,使其反应更加合理。   4.2选择填充物料和种泥   用UBF这种工艺处理浓度较高的化学制药废水,其种泥要选择颗粒污泥,同时AF设备中的填充物要使用纤维空心球,这样既不容易堵塞,又可以很好的挂膜。   4.3运转工程,UBF这种厌氧反应装置中的填充物料主要的作用是挂膜,这有助于生化工艺更有效的发挥作用,但是问题的关键在于摸索UASB的运转条件。根据时间得出以下结论,见表2。   表2各处理设备的检测结果   

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