全球半导体设备行业分析报告.pdf

全球半导体设备行业分析报告 2020年3月 2 目录 1. 写在前面：半导体行业迎来黄金十年，从ASML 看中国光刻领域该如何 围？ 5 2. 统观35 年历史，如何从小木棚走向全球光刻机领域霸主？ 6 2.1. 市场定位：服务于芯片制造的曝光环节，以继续摩尔定律为指导 6 2.2. 发展历程 ：从 PAS 到EUV，从单一光刻机走向整体光刻时代 6 2.3. 管理团队: 一流的财会背景+丰富的同行业经验，创造十余年辉煌业绩 8 3. 探清运作模式，技术壁垒如何造就市场护城河？ 9 3.1. 客户入股：打造利益共同体，共享研发风险与回报 10 3.2. 战略并购 ：构建完整上游供应链，快速攫取技术领先优势 10 3.3. 开放创新：建立开放研究网络，合理共享研发成果11 4. 细看产品信息，论ASML 如何成就近70%的市占率? 13 4.1. 光刻历史 ：从g-Line 到EUV，历经五代实现7nm 工艺节点 13 4.2. 产品组合：以三种光刻机为核心，辅之以应用组合 14 4.2.1. 核心产品：光刻机产品种类丰富，同时涉及低、中、高、超高端市场 14 4.2.2. 其他产品：通过收购与整合，拓展电子光束解决方案等应用组合 17 4.3. 销售情况：ArF i、EUV 占据近八成销售收入，EUV 销售额追平ArF i 19 5. 深剖财务数据，看公司业绩如何发展变化? 21 5.1. 业绩情况：季度业绩呈现周期性波动，1993-2018 年复合增速达24% 2 1 5.2. 研发情况 ：研发投入高达 17.46 亿美元，专利和专利申请数量高达 1.2 万项 23 5.3. 费用情况：费用支出占比呈下降趋势，2018 年占比降至4.46% 24 6. 聚焦全球市场，未来市场需求能否继续保持强劲？ 24 6.1. 竞争格局：ASML 稳居光刻机市场第一，是超高端领域独家垄断者 24 6.2. 市场规模：终端市场的增长驱动光刻设备市场的增长，未来市场规模可期 27 6.2.1. 内存和逻辑芯片需求预期增长，推动光刻机需求增长 27 6.2.2. 大数据、物联网、自动驾驶、人工智能等创新推动半导体终端市场健康增长.. 28 6.3. 行业趋势 ：光刻机分辨率不断提升、波长不断缩短、制程节点不断提高 30 7. 反观国内现状：在光刻机领域中国如何实现技术突围？ 31 7.1. 上海微电子：与国际领先水平仍有差距，有望突破90nm 制程节点 31 7.2. 从ASML 的崛起，看中国如何打造一流的光刻机生产商 32 图表目录 图1 ：ASML 股市走势图：2019 年7 月24 日再创历史新高 5 图2 ：芯片制造工艺：ASML 为芯片制造的曝光环节提供解决方案 6 图3 ：ASML 办公室遍布全球 16 个国家60 个城市 7 图4 ：ASML 公司35 年发展历程 8 图5 ：ASML 打通上下游价值链，建立开放研究网络 9 图6 ：ASML 打通上下游价值链，建立开放研究网络 9 图7 ：ASML 的战略并购线路图 10 图8 ：Cymer 的新技术发布情况一览11 图9 ：ASML 与研究机构、学院、外部技术合作伙伴建立巨大开放式研究网络11 图10 ：世界EUV 光刻机的发展历程 12 图11 ：ASML 的EUV 光刻机研制历程：已成功发布三款 13 图12 ：光刻机的发展史 14 图13 ：ASML 公司的产品情况 14 3 图14 ：ASML 的浸没式DUV 系统设备图 15 图15 ：TWINSCA N NXT:2000i 浸入式系统性能提升示意图 16 图16 ：ASML 的干燥式DUV 系统设备图 16 图17 ：ASML 的TWINSCA N NXE:3400B 型号EUV 设备图 17 图18 ：EUV 技术性能提升示意图 17 图19 ：ASML 产品组合流程图 18 图20 ：ASML 的YieldStar 光学计量解决方案 18 图2 1 ：电子束计量和检测解决方案 19 图22 ：ASML 的