红外漫反射附件的原理及应用.pdfVIP

； TENSOR-27 红外漫反射附件 一、 漫反射原理及测量 （一）漫反射基本原理 当光照射到疏松的固态样品的表面时， 除有一部分被样品表面立即反射出来 （称为镜反射光）之外，其余的入射光在样品表面产生漫射， 或在样品微粒之间 辗转反射逐渐衰减， 或为穿入内层后再折回的散射。 这些接触样品微粒表面后被 漫反射或散射出来的光具有吸收－衰减特性，这就是漫反射产生光谱的基本原 因。漫反射装置的作用就是最大强度地把这些漫射、 散射出来的光能收聚起来送 入检测器，使得到具有良好信噪比的光谱信号。 （二）漫反射的测量 由于光线照射到固体样品上时， 镜面反射和漫反射是同时存在的， 将待测样 品在合适的基质中稀释，能够有效的消除镜面反射和避免产生吸收峰饱和的现 象。稀释基质应在研究波数范围内对 IR 光无吸收且有较高反射能力，常用的稀 释基质有 KCl 和 KBr 等。卤化钾与样品的比例一般在 20: 1 至 10: 1 之间。测试 时将卤化钾与样品混合装入样品槽即可测得混合粉末的漫反射谱， 将该谱与卤化 钾粉末的漫反射相比就得到样品的漫反射谱。 漫反射谱有两种表示方式，一种用漫反射率 (漫反射光与入射光强度之比 )来 表示，另一种用 Kubelka-Munk 函数 f(R ∞)来表示。 漫反射用于定量分析时， 与样 品浓度 C 呈线性关系的不是峰高，是根据 Kubelka-Munk 函数得出的 f(R ∞)。漫 反射率和样品浓度的关系可由 Kubelka-Munk 方程来描述： 2 f(R ∞)=(1- R ∞) /2R∞=K/S 上式中 f(R ∞)称为 K-M 函数， R∞代表样品层无限厚时的漫反射率（实际上几 个毫米厚度就可以了） ，K 为样品的吸光系数， S 为样品的散射系数（与样品粒 ) 度有关，粒度一定时为常数） 。由于 K 与粉末样品浓度 C 成正比，由此可知，f(R ∞ 与 C 成正比，这是漫反射定量分析的依据。 下图为咖啡因的红外透射谱和 K-M 谱图：从图可以看出漫反射 K-M 图与透 射吸收法得到的谱图形状基本一致。 ’. ； 图 1 咖啡因红外透射谱图 图 2 咖啡因 K-M 谱图 使用 K-M 方程时要注意以下问题： （1） 在高浓度区域， K-M 方程不适用，一般需将样品稀释到无吸收的卤 化钾基质中进行测量。样品浓度要在 10%以下。 （2） 当用卤化钾做参比样品时， R∞可用 R∞ （样品）和 R∞ （参比）之比 取代来计算，即 R∞=R∞ （样品）/R ∞ （参比）。 （3） 散射系数 S 与样品密度和粒子尺寸有关。当比较一系