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- 2020-11-28 发布于山东
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如何对洁净室温湿度进行控制
洁净室的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。净化工程具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料
的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径 100 um 的硅片,温度
洁净室的温湿度 主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求
的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。
净化工程具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要
求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。
直径 100 um 的硅片,温度上升 1 度,就引起了 0.24um 线性膨胀,所以必须有 ±0.1 度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因
为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间不宜超过 25 度。
湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过 55% 时,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事
故。相对湿度在 50% 时易生锈。此外,
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