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中南大学
第三章
TEM样品制备技术
材料科学与工程学院
艾 延 龄
E-mail: ylai@mail.csu.edu.cn
由于电子束的穿透能力比较低(散射能力强),
因此用于TEM分析的样品厚度要非常薄,根据样品
的原子序数大小不同,一般在5~500nm之间。要制
备这样薄的样品必须通过一些特殊的方法。
电镜样品制备方法
复型技术
化学抛光
电解抛光法
解理和超薄切片
多层膜样品的截面样品制备方法
粉末样品的包埋法
FIB (聚焦离子束)方法(Focusing
Ion Beam )
电镜样品制备的重要性
样品制备对于获得一张满意的电子显微象是至关重要的。
对于从事电子显微学研究的科技工作者,不仅要了解和掌握电镜
的结构和工作原理,而且应该掌握样品制备的基本技术。
电镜样品制备的特点
电镜样品制备属于破坏性分析。
花费时间很多,有时甚至超过整个研究工作量的一半以上。
制样技术随电镜技术的发展而发展的。
制样技术分两大类:生物样品制备、材料科学样品制备。本文只
讲述材料科学中的制样技术,这些试样大多是有一定硬度的固态
物质。
制备成薄膜,膜厚取决于电子束的穿透能力和分析要求。
电子穿透样品的厚度与电子的能量有关:
100kV100nm;200kV200nm;
高分辨原子像要求的样品厚度应在10nm 以下,甚至5nm 以下。
原始样品形态
多种形态:大块状材料、细小颗粒、粉末、纤维状材料、薄片等
根据不同的材料,不同的要求,采取不同的制样方法
最终样品形态
样品台放样品的空间一般为:直径3mm (少数为2.3mm ),高
约0.3mm 。
样品必须制成直径3mm,中心厚度100nm-200nm。
大块样品切片方法
电火花切割
金刚刀锯切片
线切割
一、质厚衬度
衬度:眼睛能观察到的或者其它媒介能记录到
的光强度或感光度的差异;
质厚衬度就是样品中不同部位由于原子序数不
同或者密度不同、样品厚度不同,入射电子被散
射后能通过物镜光阑参与成像的电子数量不同,
从而在图像上体现出的强度的差别。
图像衬度与试样参数的关系
与原子序数的关系:物质的原子序数越大,散射
电子的能力越强,在明场像(物镜光阑只允许散
射角小的电子通过)中参与成像的电子越少,图
像上相应位置越暗。
与试样厚度的关系:设试样上相邻两点的物质种
类和结构完全相同,只是电子穿越的厚度不同,
则在明场像中,暗的部位对应的试样厚,亮的部
位对应的试样薄。
与物质密度的关系:试样中不同的物质或者不同
的聚集状态,其密度一般不同,也可形成图像的
反差,但这种反差一般比较弱。
二复型技术
复型就是表面形貌的复制 (其原理与侦破案件时
用的石膏复制罪犯鞋底花纹相似)。通过复型制
备出来的样品是真实样品表面形貌组织结构细节
的薄膜复制品。
用于制备复型的材料的要求:
(1)必须是非晶材料;
(2 )粒子尺寸必须很小;
(3 )应具备耐电子轰击的性能。
主要采用的复型方法:
一级复型法、二级复型法、萃取复型法。
1、一级复型
一级复型是指在试样表面的一次直接复型。
一级复型复型主要分为塑料(火棉胶)一级复型和
碳膜一级复型,以及氧化膜复型。
塑料(火棉胶醋酸戊
酯溶液或者醋酸纤维 100nm
素丙酮溶液-AC纸)
一级复型,相对于试
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