SiC薄膜的制备及性能研究.pdfVIP

word  word  薄膜 的制备与性能研究 SiC薄膜 的制备与性能研究 SiC 指导教师： 指导教师： 学生： 学生： 专业班级： 材料工程 专业班级： 材料工程 摘 要 摘 要 碳化硅被誉为下一代半导体材料，因为其具有众多优异的物理化 碳化硅被誉为下一代半导体材料，因为其具有众多优异的物理化 学特性，被广泛应用于光电器件、高频大功率、高温电子器件。本文 学特性，被广泛应用于光电器件、高频大功率、高温电子器件。本文 阐述了 研究进展与应用前景，从光学性质、电学性质、热稳定性、 阐述了SiC研究进展与应用前景，从光学性质、电学性质、热稳定性、 SiC 化学性质、硬度和耐磨性、掺杂物六个方面介绍了 的性能。 有 化学性质、硬度和耐磨性、掺杂物六个方面介绍了 的性能。 有 SiC SiC SiC SiC 高的硬度与热稳定性,稳定的结构,大的禁带宽度 ,高的热导率,优异 高的硬度与热稳定性,稳定的结构,大的禁带宽度 ,高的热导率,优异 的电学性能。同时介绍了 的制备方法：物理气相沉积法和化学气 的电学性能。同时介绍了SiC 的制备方法：物理气相沉积法和化学气 SiC 相沉积法，以与 薄膜表征手段。包括 射线衍射谱、傅里叶红外光 相沉积法，以与 薄膜表征手段。包括 射线衍射谱、傅里叶红外光 SiC X SiC X 谱、拉曼光谱、 射线光电子能谱等。最后讲了 的光学性能和电学 谱、拉曼光谱、 射线光电子能谱等。最后讲了 的光学性能和电学 X SiC X SiC 性能以与参杂 薄膜的光学性能研究进展。 性能以与参杂SiC薄膜的光学性能研究进展。 SiC 关键词： ，溅射，掺杂，性能研究 关键词：SiC ，溅射，掺杂，性能研究 SiC 1 / 32 1 / 32 word  word  Study On The Synthesis And Properties Study On The Synthesis And Properties O SiC Film O SiC Film