铸造Mg-8.5Al-1Zn合金化学镀镍-有机涂层工艺的研究开题报告.docVIP

开题报告 题目：铸造Mg-8.5Al-1Zn合金磁控溅 射-有机涂层工艺的研究 2013年 11月 23日 1.毕业设计（论文）综述（题目背景、研究意义及国内外相关研究情况） 1.1 题目背景及研究意义 镁合金是实际应用的金属结构材料中最轻的，具有比重小，阻尼性、切削加工性、铸造性好，比强度、比刚度高等优点，但极差的耐蚀性成为制约镁合金发挥结构性能优势的一个重要因素。选用镁合金的主要优越性在于:镁合金中有90%左右的成分是金属镁，由于镁是极其活泼的金属，其标准电极电位为-2.37 V，比铁低约2 V，比铝低约0.7 V，仅仅高于锂、钠、钾三种金属。同时其缺陷表现在：镁活泼的化学特性使镁合金在工作条件下极易受到腐蚀。特别是当镁合金件与其它金属，如铁、铜、铝等材料相接触时，镁合金件由于电位较低，成为腐蚀电偶对中的阳极而受到严重的腐蚀。因此，国内外许多科研院所都在积极开展镁合金的防腐研究，以提高其耐蚀性，发挥镁合金的性能优势[1-3]。对镁铝合金的表面处理能使合金表面形成保护膜很好的防止了腐蚀的发生，延长了合金的使用时间。 1.2磁控溅射和有机涂装的国内外研究现状 1.2.1磁控溅射技术的国内外研究现状 1852 年 Grove 首次描述了溅射这种物理现象，20 世纪 40 年代溅射技术作为一种沉积镀膜方法开始得到应用和发展70 年代以来日益受到重视,并取得了很大的发展[4]所谓溅射是指荷能粒子高速轰击固体(靶材)表面，使固体原子分子等微粒从表面射出的现象溅射镀膜就是利用这种溅射效应,使得固体原子分子等微粒从表面射出,在衬底上成膜[5-7]溅射技术本质上是磁控模式下进行的二极溅射。磁控溅射技术是从强化放电理论发展而来的,这种溅射技术既提高了溅射速率，又降低了基片的温度与其他物理气相沉积成膜技术相比,磁控溅射技术具有沉积速率高、功率效率高、向基片的入射能量低可以制备任意物质的薄膜等特点,因此近年来获得了国内外研究人员的广泛关注，得到了快速的发展[8-9]的薄膜沉积方法,正被普遍并成功地应用于微电子、光学薄膜和材料表面处理等领域中。 1.2.2有机涂层的国内外研究现状 镁合金在经过各种化学处理后，为了进一步提高防腐蚀以及装饰性的要求，往往会在膜层表面涂覆有机膜层常用的有机涂层包括环氧树脂类、丙烯酸类及聚氨酯类涂料。 澳大利亚的 Hilustre Coatings Pty Ltd 开发的镁合金表面环氧树脂涂层工艺[10]。用静电喷涂法把环氧树脂粉末涂于镁合金工件表面，在 150 ～175℃范围内进行固化，形成有效的保护层。 宋仁国等[11]在 AM50 镁合金基体表面通过浸镀法制备聚四氟乙烯和全氟-3，6-二环氧-4-甲基-7-癸烯-硫酸的共聚物(Nafion) /二甲基亚砜(DM-SO)有机涂层、 Nafion/聚吡咯与 Nafion/DMSO 有机涂层，Nafion/DMSO 有机涂层厚度与浸镀次数成线性增加关系，Nafion/聚吡咯有机涂层在这一点上恰好相反成线性递减关系，此三类有机涂层都能显著提高镁合金耐蚀性。张微等[12-13]通过硅烷处理和胶粘涂层相结合的技术在 AZ31 镁合金的表面得到了环氧防腐涂层，经过硅烷处理镁合金后，显著提高了有机涂层与基体之间的结合力以及膜层的耐蚀性。 有机涂层能够有效提高镁合金耐蚀性、耐磨性以及装饰性能。通过对镁合金进行适当的前处理，可以确保有机涂层具有良好的结合力。镁合金表面防护涂层工艺很多，但是能在恶劣环境条件下提供保护的单层膜层较少，目前国内外还未能研发成功一种能用于镁合金基体的抗恶劣环境单层膜层，很多情况下都采取多层膜层，所以能够研究出一种可以抵抗极端条件下的单层膜层是今后科研工作者需要攻坚的一大课题[14]。 2.课题研究的主要内容和拟采用的研究方案、研究方法或措施 课题主要内容：用磁控溅射及涂覆有机涂层的方法来改善Mg-8.5Al-1Zn的表面性能及抗腐蚀性能。将镁合金表面处理后对其进行附着力测试，抗冲击性测试来检测膜层的稳定性。对其进行硬度测试测试其表面性能的优化。盐雾实验试检测其表面抗腐蚀性能的改善。 2.1镁合金表面涂层工艺的设计 本课题选择复合表面处理工艺对镁合金进行处理：直流磁控溅射后涂覆有机涂层。 2.2.1磁控溅射制备镁合金表面保护膜—流磁控溅射法 a .前期表面处理 磁控溅射制备膜过程，用水磨砂纸将镁合金块状试样逐层打磨，使试样表面光滑且无污染物。然后用金相砂纸打磨，降低试样的粗糙度，之后将试样先后放有丙酮，酒精的烧杯中，利用超声波清洁器分别清洗10min以除去表面的残留污垢，然后用冷风吹干。 b .磁控溅射镀膜 经过预处理，将清洁后干燥的基体装入样品盘上，再将样品盘置于复合型