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《微纳加工技术》教学大纲 课程编号： 100091221 课程名称: 微纳加工技术 高等教育层次： 本科 课程在培养方案中的地位： 课程性质： 必修； 对应于 材料化学专业 开课学年及学期 非强制 先修课程（a必须先修且考试通过的课程，b必须先修过的课程，c 建议先修的课程） b 无机化学，材料科学基础 课程总学分： 2.0，总学时: 32； 课程教学形式：0普通课程 课程教学目标与教学效果评价： 课程教学目标（给出知识能力素养各方面的的具体教学结果）(必填) 教学效果评价 不及格 及格，中 良 优 1. 知悉和理解各种微纳加工技术的方法和基本原理； 1. 完全不知道， 2. 对各种微纳加工技术的方法和基本原理有碎片化的理解 1.对各种微纳加工技术的方法和基本原理能理解，但不完整 1.对各种微纳加工技术的方法和基本原理能完整理解，但不系统，存在断点。 1.对各种微纳加工技术的方法和基本原理能完整系统地理解 2. 知悉和理解氧化，低压化学气相沉积，等离子加强化学气相沉积，热蒸发，外延，电子束蒸发，3D打印，离子扩散，接触式光刻，电子束光刻，湿法刻蚀，干法刻蚀等各种工艺手段 1. 完全不知道， 2. 氧化，低压化学气相沉积，等离子加强化学气相沉积，热蒸发，外延，电子束蒸发，3D打印，离子扩散，接触式光刻，电子束光刻，湿法刻蚀，干法刻蚀等各种工艺手段，有碎片化的理解 1. 对氧化，低压化学气相沉积，等离子加强化学气相沉积，热蒸发，外延，电子束蒸发，3D打印，离子扩散，接触式光刻，电子束光刻，湿法刻蚀，干法刻蚀等各种工艺手段能理解，但不完整 1. 对氧化，低压化学气相沉积，等离子加强化学气相沉积，热蒸发，外延，电子束蒸发，3D打印，离子扩散，接触式光刻，电子束光刻，湿法刻蚀，干法刻蚀等各种工艺手段能完整理解，但不系统，存在断点。 1. 对氧化，低压化学气相沉积，等离子加强化学气相沉积，热蒸发，外延，电子束蒸发，3D打印，离子扩散，接触式光刻，电子束光刻，湿法刻蚀，干法刻蚀等各种工艺手段的核心过程能完整系统地理解 3.能够运用微纳加工技术的理论，利用常用的工艺检测方法和MEMS加工技术、集成电路工艺集成技术，解决微纳器件制备过程问题； 1.完全没能力运用微纳加工技术的理论，利用常用的工艺检测方法和MEMS加工技术、集成电路工艺集成技术，解决微纳器件制备过程问题； 1.整体上具备运用微纳加工技术的理论，利用常用的工艺检测方法和MEMS加工技术、集成电路工艺集成技术，解决微纳器件制备过程问题，但缺乏系统性。 1.整体上具备运用微纳加工技术的理论，利用常用的工艺检测方法和MEMS加工技术、集成电路工艺集成技术，解决微纳器件制备过程问题，但系统性方面存在断点。 1. 具备运用微纳加工技术的理论，利用常用的工艺检测方法和MEMS加工技术、集成电路工艺集成技术，解决微纳器件制备过程问题的能力。 4. 拥有根据所掌握的微纳加工技术与理论，针对各种社会需求提出相应的微纳器件的制备工艺和方案，具有分析微纳器件制备工艺的可行性及可能影响因素的能力，形成微纳器件设计与分析的思维模式； 1.完全没能力根据所掌握的微纳加工技术与理论，针对各种社会需求提出相应的微纳器件的制备工艺和方案，完全不能分析微纳器件制备工艺的可行性及可能影响因素问题； 2.具有零碎的微纳器件设计与分析的概念。 1.整体上拥有根据所掌握的微纳加工技术与理论，针对各种社会需求提出相应的微纳器件的制备工艺和方案，具有分析微纳器件制备工艺的可行性及可能影响因素的能力，形成微纳器件设计与分析的思维模式，但缺乏系统性。 1.整体上拥有根据所掌握的微纳加工技术与理论，针对各种社会需求提出相应的微纳器件的制备工艺和方案，具有分析微纳器件制备工艺的可行性及可能影响因素的能力，形成微纳器件设计与分析的思维模式，有一定的系统性，但系统性方面存在断点。 1. 拥有根据所掌握的微纳加工技术与理论，针对各种社会需求提出相应的微纳器件的制备工艺和方案，具有分析微纳器件制备工艺的可行性及可能影响因素的能力，形成微纳器件设计与分析的思维模式，形成了现代无机材料设计与分析的思维模式。 课程教学目标与所支撑的毕业要求对应关系 毕业要求（指标点）编号 毕业要求（指标点）内容 课程教学目标（给出知识能力素养各方面的的具体教学结果） 掌握微纳加工技术和微纳器件制备的基础理论及相关前沿研究领域的专业知识； 1. 知悉和理解微纳加工技术的基础理论； 2. 知悉和理解氧化，低压化学气相沉积，等离子加强化学气相沉积，热蒸发，外延，电子束蒸发，3D打印，离子扩散，接触式光刻，电子束光刻，湿法刻蚀，干法刻蚀等各种工艺手段； 具备设计和实施微纳加工技术的能力，并能够对