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LCD工艺流程简介 NC -PE CY Tang 第一页，共三十三页。 工艺流程 第二页，共三十三页。 光刻 主要工序 投入 清洗 涂胶 曝光 显影 刻蚀 脱膜 第三页，共三十三页。 玻璃投入 工序作用: 位于整条生产线的前端，负责整片ITO玻璃基板的投入。 要求ITO玻璃的規格型號符合產品的要求。 发料是最主要的是要记住ITO面朝上(通过大切角判断) 第四页，共三十三页。 工序作用: 玻璃的清洗与干燥：用清洗剂以及去离子水（DI 水）等洗净ITO 玻璃，并用物理或者化学的方法将ITO 表面的杂质和油污洗净，然后把水除去并干燥，保证下道工艺的加工质量。 清洗 第五页，共三十三页。 涂胶 工序作用: 在ITO 玻璃的导电层面上均匀涂上一层光刻胶，涂过光刻胶的玻璃要在一定的温度下将涂有光刻胶的玻璃烘烤一段时间，以使光刻胶中的溶剂挥发，增加与玻璃表面的粘附性 Glass基板 ITO 感光树脂膜 第六页，共三十三页。 曝光 工序作用: 用紫外光（UV）通过预先制作好的电极图形掩模版照射光刻胶表面，使被照光刻胶层发生反应，在涂有光刻胶的玻璃上覆盖光刻掩模版在紫外灯下对光刻胶进行选择性曝光 Glass基板 UV光 第七页，共三十三页。 显影 工序作用: 用显影液处理玻璃表面，将经过UV光照分解的光刻胶层除去，保留未曝光部分的光刻胶层，用化学方法使受UV 光照射部分的光刻胶溶于显影液中，显影后的玻璃要经过一定的温度的坚膜处理使光刻胶更加坚 Glass基板 現像液 第八页，共三十三页。 刻蚀 工序作用: 用适当的酸刻液将无光刻胶覆盖的ITO 膜蚀掉，这样就得到了所需要的ITO 电极图形 注：ITO 玻璃为氧化铟锡的导电玻璃，易与酸发生反应，而用于蚀刻掉多余的ITO，从而得到相应的拉线电极 Glass基板 第九页，共三十三页。 脱膜 工序作用: 用高浓度的碱液（NaOH 溶液）作脱膜液，将玻璃上余下的光刻胶剥离掉，从而使ITO 玻璃上形成与光刻掩模版完全一致的ITO 图形 Glass基板 第十页，共三十三页。 形成ITO图案过程 第十一页，共三十三页。 图形检测（PATTERN CHECK） 工序作用: 对玻璃表面形成的ITO图形用 电学原理进行短路测试，同时得到 激光修复所需要的数据。 第十二页，共三十三页。 激光修复（LASER REPAIR） 工序作用: 对所查找到的短路缺陷进行修复。 第十三页，共三十三页。 成盒段主要工序 PI、TOP印刷 摩擦 SEAL、TR印刷 喷洒 对盒 热压 第十四页，共三十三页。 TOP工序:一般的TN 与STN 产品不要求此步骤，TOP 膜的涂布工艺是在 光刻工艺之后再做一次SiO2 的涂布，以此把刻蚀区与非刻蚀区之间的沟槽填平并把电极覆盖住，这既可以起到绝缘层的作用，又能有效地消除非显示状态下的电极底影，还有助于改善视角特性等等，因此大部分的高档次产品要求有TOP 涂布 PI工序：为在蚀刻完成的ITO 玻璃表面涂覆取向层，并用特定的方法对限向层进行处理，以使液晶分子能够在取向层表面沿特定的方向取向（排列），此步骤是液晶显示器生产的特有技术 TOP\PI工序的作用 第十五页，共三十三页。 PI、TOP印刷 TOP/PI印刷图： 第十六页，共三十三页。 摩擦工序的作用 用绒布类材料以特定的方向摩擦取向层表面，以 使液晶分子将来能够沿着取向层的摩擦方向排列。如TN 型号摩擦取向：45 度 第十七页，共三十三页。 工序的作用 TOP/PI COATING后 PI TOP ITO GLASS RUBBING后 PI层被取向