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主要工艺流程: PAGE 03 前处理 装配 清洗处理 UV光油底漆 成品 真空溅镀 UV照射烘干 UV光油面漆 UV照射烘干 提高基材待镀层的附着性 提高基材已镀层的硬度和配色 真空溅镀也可根据基材和靶材的特性直接溅射不用涂底漆,真空溅镀的镀层可通过调节电流大小和时间来垒加,但不能太厚,太厚了表面原子垒加会出现小小的空洞间隙。厚度范围0.2~2um。 * * 第十九页,共四十二页。 PVD主要生產設備 * PVD真空爐 PVD真空爐 * * 第二十页,共四十二页。 * 挂具 進爐 * * 第二十一页,共四十二页。 PVD鍍膜(鍍鈦)顏色系列 鈦/鋯物理汽化鍍膜是在一真空容器內在不鏽鋼表面形成各顏色薄膜層, 這層膜有很好的導電及潤滑能力,顏色多种, 由淺至深為黃銅,金色,玖瑰金,紫銅,煙灰, 黑色等。 在發絲,NO.4,鏡面,壓花,蝕刻板等基礎上均可鍍色. * * * 第二十二页,共四十二页。 * * * 第二十三页,共四十二页。 真空镀膜的优缺点 優點 表面有较好的金属质感且细腻 颜色较水电镀可解决七彩色的问题如魔幻蓝、闪银灯;水电镀颜色较单调,一般只有亮银、亚银等少数几种 基材材质选用范围广,如PC、ABS、PMMA,(水镀只能选择ABS、ABS+PC) 通过镀铟锡可做成半透的效果,灯光可以从产品中发出来 不污染环境。 第二十四页,共四十二页。 真空镀膜的优缺点 缺點 蒸镀靶材受熔点限制,太高熔点的不易采用 真空蒸镀其附着力较差,要保证真空蒸镀的附着力,均需后续进行特殊的喷涂处理。 第二十五页,共四十二页。 PAGE 01 真空镀膜与水电镀的对比 * * 第二十六页,共四十二页。 NCVM 第二十七页,共四十二页。 NCVM Process Flow 2015.01.01 v1r0 * * * 第二十八页,共四十二页。 NCVM 2015.01.01 v1r0 * * * 第二十九页,共四十二页。 Ncvm Quality Control 2015.01.01 v1r0 * * * 第三十页,共四十二页。 * ?CymMetrik. All rights reserved. 真空鍍膜工藝介紹 李振強2015.02.04 第一页,共四十二页。 電 鍍 第二页,共四十二页。 電鍍(Electroplating) 電鍍(electroplating)被定義為一種電沈積過程(electrodepos- ition process), 是利用電極(electrode)通過電流,使金屬附著於 物體表面上, 其目的是在改變物體表面之特性 或尺寸 * * 第三页,共四十二页。 電鍍的目的 電鍍的目的是在基材上鍍上金屬鍍層(deposit),改變基材表面性質或尺寸。例如賦予金屬光澤美觀、物品的防鏽、防止磨耗、提高 導電度、潤滑性、強度、耐熱性、耐候性、熱處理之防止滲碳、氮化 、尺寸錯誤或磨耗之另件之修補。 * * 第四页,共四十二页。 電鍍的基本構成元素 外部電路 陰極、或鍍件(work)、掛具(rack)。 電鍍液(bath solution)。 陽極(anode)。 鍍槽( plating tank ) 加熱或是冷卻器(heating or colling coil ) * * 第五页,共四十二页。 電鍍前處理流程 分類上架 (依素材外觀選擇適合掛具) 脫脂清洗 (溫度.濃度.時間 ) 粗化 (溫度.濃度.時間) 中和 (溫度.濃度.時間) 水洗 (自來水連續循環 ) 敏化 (溫度.濃度.時間 ) 水洗 (自來水連續循環 ) 活化 (溫度.濃度.時間 ) 水洗 (自來水連續循環 ) 化學鎳完成 * * 第六页,共四十二页。 電鍍處理流程(一) 上架 (選擇合適掛具 ) 超音波清洗 (時間. 電流 ) 鍍銅 (溫度.濃度.時間.電流.電壓.大小 ) 水洗 (自來水連續循環 ) 鍍鎳 (溫度.濃度.時間.電流.電壓.大小.PH 值 ) 選擇以下六種不同電鍍鎳層色澤及功能性 半光澤鎳 ?高流鎳 全光澤鎳 ?微孔鎳 沙丁鎳(霧鎳) ?鎳合金(古銅) * * 第七页,共四十二页。 真空鍍膜 第八页,共四十二页。 前言 真空镀膜作为一种新兴的镀膜技术,其产品表面有超强的金属质感被越来越多的应用在化妆品、手机等电子产品的外壳、汽车标志、汽车车灯等的表面处理,其膜面不仅亮度高,质感细腻逼真,可做出多种靓丽色彩,同时它还有制作成本较低,有利于环境保护,较少受到基材材质限制的优点。 第九页,共四十二页。 真空鍍膜 真空镀膜: 真空镀膜是指在真空环境下,将某种金属(或者金属
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