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胎膜及弯曲点与两端头距离比大于2的弯曲圆轴锻造方法.pdfVIP

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  • 2023-05-05 发布于四川
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胎膜及弯曲点与两端头距离比大于2的弯曲圆轴锻造方法.pdf

    本发明属于自由锻领域，涉及胎膜及弯曲点与两端头距离比大于2的弯曲圆轴锻造方法。弯曲胎膜用于锻造弯曲点与两端头距离比大于2的弯曲圆轴，弯曲圆轴包括弯曲部和具有台阶的定位部；弯曲胎膜包括：上弯曲胎膜和下弯曲胎膜。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114289666 A (43)申请公布日 2022.04.08 (21)申请号 202111534252.9 (22)申请日 2021.12.15 (71)申请人 陕西

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