基于单晶圆的低压化学气相沉积lpcvd的热预算控制.docx

基于单晶圆的低压化学气相沉积lpcvd的热预算控制 低压化学相沉积（rcd）是化学相沉积（rcd）的一个分支，也是半丝像电路制造中不可或缺的重要过程之一。它主要用于多晶硅及其原位掺杂、氮化硅、氧化硅以及钨化硅等薄膜的生长。其基本原理是将一种或数种物质的气体, 在低气压条件下, 以热能的方式激活, 发生热分解或化学反应, 在衬底 (如硅晶圆) 表面沉积所需的固体薄膜。 扩散炉是目前主流8、12英寸集成电路生产线中常见的LPCVD设备。其主要优点是工艺控制简单、成本低。然而, 随着集成电路工艺的不断进步, 尤其到了纳米量级以后, 对工艺的要求日益严格。一方面, 原本一些简单的工艺制程随着要求的提升而开始变得越来越复杂和不易控制。扩散炉已经难以满足精确控制的要求。另一方面, 随着一些新材料、新技术的引入, 工艺集成对热预算 (Thermal Budget) 的要求日益苛刻。高温处理时间以小时为单位的扩散炉, 与以秒为单位的单晶圆L PCVD设备在热预算的控制上已经无法比拟。 热预算的估算 和扩散炉相比, 基于单晶圆的LPCVD设备有着显著的优点:控制精确, 工艺重复性、可靠性好, 维护、保养简单以及维护后的复机便捷, 机台的有效使用率高等。因此在纳米级的芯片制造工艺中它逐渐成为不可替代的LPCVD薄膜生长设备。 应用材料公司是最早提供单晶圆半导体设备的供应商之一, 也是目前单晶圆LPCVD成膜系统的主要提供者。 (图1) 图3给出热预算的估算公式。 以650℃生长200埃的氮化硅为例, E 图4是ITRS不同版本 (发布于2004、2006、2008年) 上给出的SDE (Source-Drain-Extension, 旧称LDD) 超浅结的结深需求。由图可见, 在2004、2006年的要求中, 明显低估了热扩散在工艺集成控制中的难度, 超出了实际生产中工艺集成能达到水平。事实上, 离子注入的单项工艺早在1998年就报道用于12纳米的超浅结制作 薄膜的生长sem 在纳米级集成电路制造中, 单晶圆LPCVD设备已经广泛用于氧化硅、氮化硅、多晶硅以及硅钨合金等薄膜的生长上, 例如, 在逻辑产品中:偏移间隔层 (offset-spacer) 、间隔层 (main-spacer) 、遮罩层 (hardmask) 、刻蚀阻挡层 (etchstop) 、张应力衬垫层 (Tensil estress-liner) , 以及集成栅 (Gatestack Poly) 等薄膜的生长;在Flash产品中:多晶硅 (Poly-to-poly/Si Contact) 、遮罩层、刻蚀阻挡层、隧穿氧化层 (tunnel-oxide) 以及控制栅ONO结构等薄膜的生长;在DRAM中:遮罩层, 刻蚀阻挡层以及多晶硅合金 (Polycide:Poly+WSix) 等薄膜的生长, 等等。 纳米患者 随着技术的进步, 单晶圆LPCVD工艺已经在纳米级集成电路制造中被广泛使用。除了上文提及的更好的热预算控制之外, 单晶圆LPCVD工艺的另一个重要优点是实现相关制程的工艺集成。例如上文提到的Polycide工艺是目前110-70纳米DRAM产品中被广泛应用的重要集成工艺, 其主要特征:硅晶圆衬底先进入一个生长室, 完成原位掺杂的多晶硅成膜后, 再进入下一个生长室, 完成硅化钨薄膜的生长, 最后传出系统。 在同一主机架上可以根据不同需要连挂相同或不同制程的生长室, 从而针对生产过程中不断产生的各种需求进行灵活配置, 大大提高设备的利用率。 与扩散炉的热场加热方式不同, 单晶圆生长室采用Heater加热 (接触式加热) (图2) 。衬底进入生长室后落在Heater上, 经过30-50秒的时间即可达到热平衡, 同时通入载气, 伺服气流稳定并使生长压力达到平衡, 然后通入反应气体, 进行薄膜的生长。成膜后, 利用10秒左右的时间将生长室抽成真空, 最后将衬底传出。通常单片晶圆完成工艺生长总共需时为2-4分钟。 热预算