电子行业半导体设备系列，量测检测，国产化短板，替代潜力巨大.docxVIP

正文目录 过程控制：量测、检测是半导体制造良率的重要保障 5 量测 8 1.2 检测 16 量测检测持续升级，是前道设备主赛道之一 21 KLA：全球量测检测龙头企业 26 精测电子、睿励科学仪器、中科飞测等公司布局量测检测赛道 29 风险提示 34 图表目录 图表 1: 半导体量测与检测分类 6 图表 2: 过程控制（检测、测量）和 ATE（测试）2021 年市场空间 6 图表 3: 检测缺陷量测尺寸 7 图表 4: 光学检测技术、电子束检测技术和 X 光量测技术特征比较 7 图表 5: 2021 年过程控制分类及市场规模（亿美元） 8 图表 6: 套刻误差测量 8 图表 7: 常用的套刻误差测量目标图形 8 图表 8: KLA Archer 系列套刻测量系统 9 图表 9: ASML YiledStar 系列套刻测量设备 9 图表 10: 薄膜测量方法 10 图表 11: 四探针法 10 图表 12: 涡流法 10 图表 13: 椭圆偏振法原理图 11 图表 14: 依次为 Filmetrics R50、Aleris、和 SpectraFilm 11 图表 15: 光学散射测量基本流程 12 图表 16: 不同光学散射测量装置示意图 注：(a)(b)角分辨散射仪；(c)(d)光谱散射仪 13 图表 17: 基于非线性回归和库匹配方法的参数提取流程 14 图表 18: KLA SpectraShape 系列 CD 和形状量测系统 14 图表 19: 电子束与物质相互作用产生的信息 15 图表 20: 扫描电镜原理图 15 图表 21: SEM 图像 15 图表 22: 将 SEM 图像做成 Line Profile 计算出测定值 15 图表 23: 明场和暗场光学图形晶圆缺陷检测设备 16 图表 24: KLA 39xx、29xx 系列图案晶圆缺陷检测系统 17 图表 25: KLA Puma 系列图形晶圆缺陷检测系统 17 图表 26: 缺陷检测方式 18 图表 27: ASML HMI 系列电子束图形晶圆缺陷检测系统 19 图表 28: 无图形晶圆缺陷检测过程 19 图表 29: 典型暗场散射示意图和不同缺陷散射示意图 20 图表 30: 中科飞测与科磊无图形设备性能对比 20 图表 31: KLA Candela 8720 21 图表 32: Hitachi LS 21 图表 33: 全球半导体设备分环节市场规模（亿美金） 22 图表 34: 全球晶圆制造设备分应用市场规模（十亿美金） 22 图表 35: 中国大陆设备市场重要性日益提升（左轴：十亿美金） 22 图表 36: 半导体设备市场增速周期性 23 图表 37: 全球过程控制市场（亿美金） 23 图表 38: 2020 年半导体检测和量测设备市场各类设备销售额及占比 24 图表 39: 2021 年过程控制细分市场（百万美元） 24 图表 40: 2020 年全球半导体检测和量测设备市场分地区情况 25 图表 41: 中国大陆半导体检测和量测设备市场规模（亿美金） 25 图表 42: 2020 年中国半导体量测检测设备市场格局 25 图表 43: 2021 年过程控制市场格局（亿美金） 26 图表 44: KLA 营收及增速（亿美金） 27 图表 45: KLA 分地域营收（亿美金） 27 图表 46: KLA 分产品营收（亿美金） ............................................................ 27 图表 47: KLA FY2023 产品结构 ................................................................. 27 图表 48: KLA 盈利水平 ........................................................................ 27 图表 49: KLA 研发费用情况（亿美金） .......................................................... 27 图表 50: 科磊产品系列 ....................................................................... 28 图表 51: KLA 产品线迭代 ...................................................................... 28 图表 52: KLA 远期增长目标 .................................