TFT制造原理和流程.pptxVIP

TFT显示面板制造工程简介目录一液晶显示器(LCD)的基础 1.1液晶材料及液晶显示器的基本定义 1.2液晶显示器的基础及原理二 TFTLCD制造基本流程及设备 2.1 制造流程概要 2.2 ARRAY工艺流程及设备 2.3 CELL工艺流程及设备 2.4 Module工艺流程及设备一液晶显示器(LCD)的基础加热不透明浑浊状态透明液态固态加热冷却冷却1.1液晶材料及液晶显示器的基本定义液晶的发现 1888年，奥地利植物学家F. Reinitzer在测量某些有机物熔点时发现： 1889年，德国物理学家O. Lehmann发现： 这类不透明的物体外观上属液体，但具有晶体特有的双折射性质，于是将其命名为“液态晶体” 一液晶显示器(LCD)的基础1.1液晶材料及液晶显示器的基本定义液晶 : 一种液体状结晶性物质，介于固体(结晶)以及液体(非结晶)之间的第四状态(中间状态)，具有流动性以及各向异性(光学各向异性，如双折射效应).液晶显示器 : 利用外加电压以及液晶材料本身光学各向异性(如双折射效应以及旋光特性)，进而显示所需要的数字文字图形以及影像等功能的一种人机界面的信息通讯网络的系统。一液晶显示器(LCD)的基础偏光板液晶盒Array基板CF基板扩散?光学薄膜接续电路基板导光板荧光管驱动用LSITCP1.2液晶显示器的基础及原理液晶显示器的构造模式断面图一液晶显示器(LCD)的基础封框胶 信号配线端子 Ag电极 Gate配线端子 配向膜ＴＦＴ基板CF基板1.2液晶显示器的基础及原理液晶面板的构造平面图(TFT型 )一液晶显示器(LCD)的基础偏光板CF基板盒垫料ITO转移电极(Ag)BGRBM封框胶封框胶垫料液晶取向膜TFT基板偏光板1.2液晶显示器的基础及原理液晶面板的构造断面图(TN型 )一液晶显示器(LCD)的基础1.2液晶显示器的基础及原理偏光板彩膜的结构　液晶TFT基板TFT黑色矩阵提高对比度降低Ioff偏光板背光源彩膜空间混色法实现TFTLCD彩色化二 TFTLCD制造基本流程及设备2.1 制造流程概要成膜→光刻　（反复） 玻璃基板1100×1300２．CELL工程取向→液晶滴下→贴合→切断(15型16片)彩膜ＴＦＴ基板贴合面板ＴＦＴ基板３．MODULE工程面板液晶面板完成端子接续电路基板安装外框组装背光源二 TFTLCD制造基本流程及设备2.2 ARRAY工艺流程及设备ＴＮ：５Mask ProcessＴＮ：４Mask ProcessGlassGlass购入,洗净后使用购入,洗净后使用Ｇate工程Ｇ工程检查(SFT1)Repair(SFT1)Active工程Active S/Ｄ工程S/Ｄ工程检查(TN1)Repair(TN1)Repair(SFT2)检查(SFT2)Ｃ工程 钝化层工程ＰＩ工程ITO工程Repair(TN2)检查(TN2)Cell工程Cell工程ARRAY制造流程图TFT Array组成材料TFT –GATE电极形成TFT – Active(岛状半导体形成)TFT –S/D源漏电极形成TFT –钝化层及接触孔形成TFT – ITO像素电极形成2.2 ARRAY工艺流程及设备卸料机械手传送装置周转盒气刀MS高压喷射刷洗药液喷淋UV传送装置机械手装料洗　浄2.2 ARRAY工艺流程及设备洗　浄高圧刷子药液Ａ／ＫＭＳＵＶ排水纯水排水ＤＡＤＡＰＰＰＵ　Ｖ刷洗药　液Ｍ　Ｓ高 压 喷射机械剥离机械剥离溶　解氧化分解机械剥离洗净 功能　有机物(浸润性改善)微粒子(中径)　微粒子　(大径) 微粒子　(小径)有机物洗净对象 加速度cavitationＵＶ/Ｏ３接触压水压　作　　用溶　解2.2 ARRAY工艺流程及设备进料室加热室工艺室Ａ搬送室工艺室Ｂ自动移栽装置卸料室工艺室ＣPVD（溅射）：物理气相沉积 (Physical Vapor Deposition)2.2 ARRAY工艺流程及设备PVD：物理气相沉积PVD(Physical Vapor Deposition)靶材腔体阴极阳极泵基板2.2 ARRAY工艺流程及设备PECVD：电浆辅助化学气相沉积Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition2.2 ARRAY工艺流程及设备加热腔ヒート工艺腔プロセス机械手トランスファーＬＬ／ＵＬ纳入(大气到真空)/送出腔(真空到大气)ローダー装载台PECVD：电浆辅助化学气相沉积Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition2.2 ARRAY工艺流程及设备ＲＦpower气体供给ＭＦＣＲＦ电源气体BOXＭＦＣＭ．ＢＯＸＭＦＣ气体吹出电极（阴极）流量控制下部电极（阳极）等离子体Ｐ汽缸cabinet压力计ヒーター压力控制工艺腔体（电极部）控制节流阀干泵除害装置（scru