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激光陀螺超光滑表面加工技术 超精密表面加工 随着光学和光电子学的快速发展，各种功能光电工具、软x射线光学系统、高能耗激光反射镜、激光反射镜和高密度波分复器的应用对所用元件或薄膜的表面粗糙度大于1nmrms的超平滑要求。 特别是在激光陀螺的研制中, 为了降低环形腔的闭锁阈值, 要求环形腔的高反片具有极低损耗和很高的反射率。 美国的激光陀螺技术在20世纪80年代中后期已经实现工程化, 超光滑表面加工成为其核心技术之一。 借助超光滑表面加工技术来降低超光滑基底的表面粗糙度, 是降低散射损耗的首要条件。 超光滑表面一般具有以下主要特征: 表面粗糙度小于1 nm (Ra) ; 尽可能小的表面和亚表面损伤; 表面残余应力极小; 晶体的表面具有完整的晶体结构。 1 好的抛光方法的特点 传统的沥青抛光盘加上氧化鈰抛光液可以抛光各种玻璃和晶体。 在加工过程中, 材料的去除是机械和化学相互作用的过程。 具有熟练经验的工人, 利用这种方法可以达到非常好的表面结果 (优于0.3 nm rms) 。 但是这种加工过程的时间是不确定的, 容易造成表面及亚表面损伤, 且加工结果非常依赖工人的个人经验, 很不适合现代社会对产品加工自动化, 快捷化的要求。 一个好的抛光方法应该具有如下特点: 1) 抛光过程容易控制; 2) 去除量是可以预测的; 3) 较高的抛光效率; 4) 抛光装置成本低, 抛光过程污染小。 2 超精密加工技术 随着人们对亚纳米量级光滑表面形成机理认识的深入和超光滑检测技术水平的提高, 出现了许多应用化学, 磁学, 流体力学等原理加工超光滑表面的新方法。 下面分别介绍几种新的抛光方法及其工作原理, 总结其主要特征, 并提供一些最新的实验结果。 2.1 浮法轴转轴法 1987年日本大坂大学的难波义治教授首先提出浮法抛光法, 如图1所示。 这种方法主要是靠抛光剂在工件和转动磨具中间的空隙高速流动, 从而与工件表面产生碰撞而达到去除材料的目的。 磨盘由纯度99.99%以上的金属锡加工而成, 具有非常高的平面度。 为了防止锡盘损伤工件表面, 要在锡盘面再车出更精细的螺旋线, 进行软化处理。 工作时, 将锡盘和工件浸入抛光液中, 锡盘绕主轴转动, 同时工件浮在锡盘上绕自身轴做定轴旋转运动。 抛光液运动产生的动压力使工件与磨盘之间有数微米厚的液膜, 微细抛光颗粒在这层液膜中运动, 与工件表面不断碰撞从而实现材料的去除。 浮法抛光采取非接触式的方式, 材料去除量很小, 抛光模磨损也非常小, 容易控制锡盘面形精度, 可以加工出非常好的超光滑平面, 表面粗糙度仅0.2 nm rms, 平面度高于λ/20。 但由于这种方法是一种全口径的抛光方法, 只适用于加工平面。 另外, 锡盘的表面精细化也很难处理, 面形精度受锡盘的面形精度影响较大。 为了实现对球面及非球面的超光滑抛光, 科研人员在浮法抛光基础上, 采用了计算机控制小工具抛光和浮法抛光相结合的设计思想, 提出了一种新型的抛光方法—微射流抛光法。 既能够继承浮法抛光的微去除、 非接触、 低表面及亚表面损伤的优点, 又能加工出低陡度的球面和非球面, 其结构原理如图2所示。 小磨头位于工件上方, 电机驱动小磨头绕自身中心轴转动, 组成行星运动方式。 磨头的轴上端通过动态密封装置和抛光液供给系统连接起来。 磨头与工件之间的抛光液层厚度约为几十微米, 在径向压差和剪切应力共同作用下抛光液做层流流动。 悬浮于抛光液中的抛光微粒便以近似平行于工件表面的方向不断撞击工件表面, 不断修整微观隆起。 2.2 gha介质的工作原理 磁性抛光法是一种新兴的加工超光滑表面的方法, 它是电磁学、 流体力学、 化学等应用于光学表面加工而形成的一项综合技术。 这种想法是由白俄罗斯的研究人员首先提出的, 后经与罗彻斯特大学的光学加工中心的合作, 使得这项技术得到长足的发展[10,11,12,13,14,15]。 磁流变液是由磁性颗粒, 基液和稳定剂组成的悬浮液。 这种液体在不加磁场作用下是可以自由流动的液体。 而在磁场的作用下, 其流变特性发生急剧改变, 表现为具有粘塑性的Bingham介质, 撤掉磁场后又恢复其流动特性。 工件位于运动盘的上方, 与运动盘表面形成了一个凹隙。 磁极置于运动盘的下方, 并且在工件和运动盘所形成的小空隙处产生高梯度磁场。 运动盘内装有磁性抛光液, 当磁性抛光液随运动盘一起运动到凹隙附近时, 高梯度磁场使之聚结, 变硬, 形成凸起缎带, 从而对工件表面产生剪切力, 从而实现工件表面材料的去除, 如图3、 图4所示。 在抛光过程中, 工件绕自身轴作回转运动, 可对工件的任意环带进行抛光。 同时, 工件轴也可以作摆动, 从而对工件的全域抛光。 改变工件通过磁流变液的扫过速率 (或驻留时间) 来实现选择性工件表面材料