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石墨烯工艺流程单选题100道及答案解析

1.石墨烯制备过程中，常用的化学气相沉积法（CVD）的主要原料是？

A.甲烷

B.乙烯

C.乙炔

D.苯

答案：A

解析：在化学气相沉积法（CVD）中，常用的原料是甲烷。

2.石墨烯生产中，机械剥离法的优点是？

A.产量高

B.成本低

C.质量高

D.工艺简单

答案：C

解析：机械剥离法得到的石墨烯质量高，但产量低、成本高、工艺复杂。

3.以下哪种方法不是石墨烯的制备方法？

A.氧化还原法

B.溶剂热法

C.电泳法

D.外延生长法

答案：C

解析：电泳法不是石墨烯常见的制备方法。

4.石墨烯制备过程中，氧化石墨烯还原常用的还原剂是？

A.氢气

B.硼氢化钠

C.一氧化碳

D.氮气

答案：B

解析：硼氢化钠是常用于还原氧化石墨烯的还原剂。

5.化学气相沉积法制备石墨烯时，通常需要在什么条件下进行？

A.高温高压

B.低温低压

C.高温低压

D.低温高压

答案：C

解析：CVD法通常在高温低压条件下进行。

6.石墨烯工艺流程中，为提高石墨烯的分散性，常采用的处理方法是？

A.超声处理

B.加热处理

C.光照处理

D.搅拌处理

答案：A

解析：超声处理有助于提高石墨烯的分散性。

7.以下哪种物质在石墨烯制备中常作为催化剂？

A.镍

B.铜

C.铁

D.铝

答案：B

解析：铜在石墨烯制备中常被用作催化剂。

8.石墨烯的氧化过程中，常用的氧化剂是？

A.高锰酸钾

B.重铬酸钾

C.过氧化氢

D.次氯酸钠

答案：A

解析：高锰酸钾是石墨烯氧化过程中常用的氧化剂。

9.在石墨烯的制备流程中，进行清洗的目的是？

A.去除杂质

B.增加产量

C.改变性质

D.提高纯度

答案：A

解析：清洗主要是为了去除制备过程中产生的杂质。

10.石墨烯制备中，哪种方法适合大规模生产？

A.机械剥离法

B.化学气相沉积法

C.氧化还原法

D.外延生长法

答案：C

解析：氧化还原法相对较适合大规模生产。

11.以下哪种表征手段常用于检测石墨烯的层数？

A.拉曼光谱

B.红外光谱

C.紫外光谱

D.荧光光谱

答案：A

解析：拉曼光谱可用于检测石墨烯的层数。

12.石墨烯工艺流程中，干燥处理通常采用的方法是？

A.真空干燥

B.自然干燥

C.加热干燥

D.冷冻干燥

答案：A

解析：真空干燥常用于石墨烯的干燥处理。

13.化学气相沉积法制备石墨烯时，基底材料通常选择？

A.硅片

B.玻璃

C.石英

D.金属箔

答案：D

解析：金属箔常作为CVD法制备石墨烯的基底材料。

14.氧化还原法制备石墨烯，氧化过程中会引入大量的？

A.羟基

B.羧基

C.羰基

D.醚键

答案：B

解析：氧化过程中会引入大量的羧基。

15.石墨烯制备完成后，进行质量检测时，不包括以下哪项指标？

A.导电性

B.比表面积

C.颜色

D.厚度

答案：C

解析：颜色通常不作为石墨烯质量检测的主要指标。

16.外延生长法制备石墨烯，通常在什么材料上进行？

A.碳化硅

B.二氧化硅

C.氧化铝

D.氧化镁

答案：A

解析：外延生长法通常在碳化硅上进行。

17.石墨烯工艺流程中，过滤操作的主要目的是？

A.分离石墨烯与溶液

B.去除大颗粒杂质

C.浓缩溶液

D.改变溶液pH

答案：A

解析：过滤是为了分离石墨烯与溶液。

18.机械剥离法制备石墨烯，常用的工具是？

A.刀具

B.胶带

C.镊子

D.刷子

答案：B

解析：胶带常用于机械剥离法制备石墨烯。

19.以下哪种方法可以提高石墨烯的导电性？

A.掺杂

B.氧化

C.水解

D.聚合

答案：A

解析：掺杂可以提高石墨烯的导电性。

20.石墨烯制备过程中，为了控制石墨烯的尺寸，常采用的方法是？

A.改变反应时间

B.改变反应温度

C.改变反应物浓度

D.选择不同的基底

答案：D

解析：选择不同的基底可以在一定程度上控制石墨烯的尺寸。

21.化学气相沉积法制备的石墨烯，其晶体质量？

A.较低

B.较高

C.中等

D.不确定

答案：B

解析：CVD法制备的石墨烯晶体质量较高。

22.氧化石墨烯还原过程中，若温度过高会导致？

A.还原不完全

B.石墨烯团聚

C.产生副产物

D.反应速率减慢

答案：B

解析：温度过高会导致石墨烯团聚。

23.以下哪种不是石墨烯工艺流程中的预处理步骤？

A.粉碎原料

B.酸洗

C.碱洗

D.镀膜

答案：D

解析：镀膜不是石墨烯工艺流程中的预处理步骤。

24.石墨烯制备中，溶剂热法的特点是？

A.反应条件温和

B.产物纯度高

C.反应速度快

D.设备要求