微纳集成电路制造工艺教学课件第9章 光刻工艺(2).pptxVIP

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第九章光刻工艺混合式教学设计线上1.0学时，线下4.0学时。3.1学习目标：（对课程的能力目标和素质目标的贡献最大）①知识目标：理解掌握光刻工艺原理和光刻三要素，熟悉现代光刻工艺流程，总结提高光刻分辨率的方法与途径。②能力目标：独立进行光刻工艺仿真、分析影响光刻分辨率的关键工艺因素、设计光刻工艺流程。③素质目标：培养创新思维方式，深刻理解卡脖子关键技术，树立发展自主光刻技术的自信心。3.2内容与资源：工艺流程为主线，三要素为重点，分辨率为核心，构建现代光刻工艺知识体系（1）教学内容：光刻工艺流程及原理、光刻机与光源、光刻版、光刻胶、光刻分辨率及提高分辨率的方法与途径，193nm浸入式光刻技术和极紫外光刻技术（专题研讨），光刻工艺仿真实验。（2）学习平台及资源：本课程SPOC、优质MOOC。中国大学MOOC：本课程-现代集成电路制造技术，开课2次学在西电SPOC：课件