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2025年1+X集成电路理论测试题及答案

一、单选题（共20题，每题1分，共20分）

1.试题：低压化学气相淀积的英文缩写是（）。

选项A．PECVD

选项B．HDPCVD

选项C．APCVD

选项D．LPCVD

2.试题：化学机械抛光中,抛光液的作用是()。

选项A．向抛光垫施加压力

选项B．将反应生成物从硅片表面却除

选项C．清洗硅片

选项D．与硅片表面材料反应,变成可溶物质或将一些硬度过高的物质软化

3.试题：单晶炉中籽晶轴的作用是()。

选项A．带动籽晶上下移动和旋转

选项B．提供一个原子重新排列标准

选项C．保证炉内温度均匀分布及散热

选项D．起支撑作用

4.试题：用转塔式分选机