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新柯隆型离子源原理与应用详解.pdf

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    Ⅰ离子源的用途

    ①基板洗净（前处理）:提高表面粗糙度

    ②IAD（辅助离子蒸镀）:提高填充密度

    A)光学特性

    随着环境温湿度的变化，光学特性比不用离子源更稳定。

    减少吸收和散乱，提升光学特性。

    B)机械特性

    薄膜的硬度增加。

    薄膜的应力减少（或者是可以控制）。

    基板、薄膜各个层间的密着力增高。

    C)化学的特性

    对于外界环境的耐受性增加（耐酸、耐碱），稳定。

    离子源的详细作用

    I基板洗净（前处理）

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