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第52卷第3期红外与激光工程2023年3月
Vol.52No.3InfraredandLaserEngineeringMar.2023
基于皮秒激光诱导击穿光谱技术的酸锌薄膜的
快速定量分析研究
董丽丽,高晴²,吴家森²,夏祥宇²,刘世明?,修俊山2*
(1.山东理工大学化学化工学院,山东淄博255000;
2.山东理工大学物理与光电工程学院,山东淄博255000)
摘要:采用射频磁控溅射方法在不同的溅射功率下制备了掺杂Ga元素的ZnO透明导电薄膜材料
(ZnGa2O4,GZO),在GZO薄膜的制备过程中,溅射功率会对样品的组分配比产生影响,从而导致
GZO薄膜的性能产生差异。文中利用皮秒激光诱导击穿光谱技术(PS-LIBS)对GZO薄膜进行了微烧
蚀分析,对GZO薄膜的关键元素浓度比进行了快速定量分析研究。结果表明GZO薄膜的光学性能与
元素谱线强度比之间存在一定的联系,随着溅射功率的增加,Zn/Ga的谱线强度比值与浓度比呈现出
一致的变化,Ga元素的含量与样品的禁带宽度变化一致。同时,使用玻耳兹曼斜线法与斯塔克展宽法
对等离子体温度与电子密度进行了计算。所有结果表明,PS-LIBS技术可以实现GZO薄膜关键组分
配比的快速分析,为磁控溅射法制备GZO薄膜的工艺现场的快速性能分析、制备参数的实时优化提供
了技术参考。
关键词:射频磁控溅射法;皮秒激光诱导击穿光谱技术;等离子体温度;电子密度;定量分析
文献标志码:ADOI:10.3788/IRL
中图分类号:0433.4
0引言新型透明导电薄膜材料。射频磁控溅射法作为一种
工艺成熟的薄膜材料制备方法,由于其方法稳定、成
随着对于纳米材料研究的不断深人,纳米材料的
膜质量较高等优点,已经被广泛地应用到科研以及工
重要性与先进性也日益凸显,对于一些结构新颖,性
业领域[12-13]。此次实验使用射频磁控溅射的方法在
能独特的半导体纳米材料的研究正得到越来越广泛
不同的溅射功率下沉积制备GZO薄膜样品,在
的关注。透明导电氧化物纳米薄膜由于具备良好的
导电性、可见光范围内较高的透过率等特性,在平面GZO薄膜材料的制备过程中,溅射工艺参数的变化
显示器、液晶显示屏幕、薄膜太阳能电池等诸多领域往往会使其组分配比产生差异,导致样品的性能不
同。因此需要对制备得到的GZO薄膜进行快速的组
都有广泛的应用。目前,较为常用的由锡掺杂氧化
(ITO)薄膜[1-3]、氟掺杂SnO,导电薄膜(FTO)[4-1]、铝掺分配比分析,从而对样品的性能进行分析,优化溅射
杂ZnO薄膜(AZO)7-9]等。但是,它们在大量使用的的工艺参数。
同时也伴随着一些缺点,例如原料储存量少、不够环目前,常用的一些分析测试手段有X射线荧光分
保、成本昂贵等等。因此,寻求它们的替代产品,一直
是该领域的一个重要的研究方向。的元素分析领域都有着较为广泛的应用,但是这些方
酸锌(ZnGa2O4,GZO)薄膜是通过ZnO薄膜掺法的测试过程复杂繁琐,测试时间比较长。对于GZO
纳米薄膜的快速、实时、微损伤分析要求都或多或少
杂Ga元素得到的,其性能接近传统的ITO薄膜[10-,
并且Ga元素可以提高其载流子浓度,获得宽禁带的
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