蓝宝石衬底材料CMP抛光液.docVIP

蓝宝石衬底材料CMP抛光液

原料配比

原料

配比（质量份）

1#

2#

三乙醇胺

160

－

四甲氢氧化铵

－

80

KOH

40

20

18MΩ以上超纯去离子水

200

100

FA/O活性剂

40

10

FA/O螯合剂

40

10

粒径15~25nm纳米SiO2溶胶

800

3600

去离子水

2720

180

制备方法

（1）将密闭反应器系统用去离子水负压涡流下清洗三遍；密闭反应器原材料选用无污染的聚丙烯、聚乙烯或聚甲基丙烯酸甲脂；

（2）在负压涡流状态下逐渐加入胺碱调节pH值，无机强碱试剂用18MΩ以上超纯水稀释后在负压涡流状态下逐渐吸入，pH值调节为9~13；

（3）在负压涡流状态下逐渐加入天津晶岭微电子材料有限公司销售的FA/O活性剂，持续时间15分钟；

（4）在负压涡流状态下逐渐加入天津晶岭微电子材料有限公司销售的FA/O螯合剂；

（5）将浓度30~50％的纳米SiO2溶胶用负压吸入反应器内并呈涡流状态；

（6）充分搅拌，搅拌时间为5~15分钟，均匀后进行灌装；

原料配伍本品各组分质量份配比范围为：胺碱80~160、无机强碱KOH20~40、18MΩ以上超纯去离子水100~200、FA/O活性剂10~40、FA/O螯合剂10~40、粒径15~25nm纳米SiO2溶胶800~3600、去离子水180~2720。

所述胺碱可选自三乙醇胺、四甲氢氧化铵中的一种；

所述FA/O活性剂为聚氧乙烯醚，是（C15H15~190（CH2CH2O）5H）、（C20H15~190（CH2CH2O）5H）、（C4OH15~190（CH2CH2O）5H）的复合物。

所述FA/O螯合剂为乙二胺四乙酸四（四羟乙基乙二胺）。

所述纳米SiO2溶胶是粒径15~100nm、分散度＜0.001、莫氏硬度7的SiO2溶胶。

本品中采用方法的作用为：抛光液制备采用密闭反应器负压搅拌的方法可避免有机物、金属离子、大颗粒等有害污染物的引入；可使纳米硅溶胶在负压下呈涡流状态，防止层流区硅溶胶的凝聚或溶解而无法使用；先加入FA/O活性剂可以改善抛光浆料稳定性，FA/O活性剂可以包覆后加入的纳米硅溶胶，加大研磨料之间的空位电阻使得胶体研磨料在适当提高pH的情况下可长期稳定存在，避免了纳米硅溶胶在pH值大于12时产生溶解；可避免18MΩ以上超纯水溶解后的碱性pH调节剂由于局部pH过高而导致凝聚，无法使用。

产品应用本品主要应用于蓝宝石衬底材料化学机械抛光。

产品特性

（1）本品方法制备的碱性抛光液，可对设备无腐蚀，硅溶胶稳定性好，解决了酸性抛光液污染重、易凝胶等诸多弊端。

（2）选用纳米SiO2溶胶作为抛光液磨料，其粒径小（15～100nm）、浓度高（30-50%）、硬度小（莫氏硬度7，对基片损伤度小）、分散度好，能够达到高速率高平整低损伤抛光、污染小，解决了Al2O3磨料硬度大易划伤、易沉淀等诸多弊端。

（3）选用的密闭反应器原材料为无污染的聚丙烯、聚乙烯或聚甲基丙烯酸甲脂等，有效避免等金属离子有害污染物的引入。

（4）负压涡流搅拌的抛光液制备方法可避免有机物、金属离子、大颗粒等有害污染物的引入；纳米硅溶胶在负压下呈涡流状态，防止层流区硅溶胶的凝聚或溶解而无法使用；可避免18MΩ以上超纯水溶解后的碱性pH调节剂由于局部pH过高而导致凝聚，无法使用。

（5）采用本品方法能够制备含有高浓度纳米SiO2溶胶（30-50%）、高pH的抛光液便于运输、储存，并可使成本降低。

参考文献中国专利公告CN－201010232141.8