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- 2026-02-11 发布于重庆
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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN109698212A
(43)申请公布日2019.04.30
(21)申请号201811627103.5
(22)申请日2018.12.28
(71)申请人上海集成电路研发中心有限公司地址201210上海市浦东新区张江高科技
园区高斯路497号
(72)发明人李艳丽伍强杨渝书朱鸣
(74)专利代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237
代理人郑星
(51)Int.CI.
H01L27/146(2006.01)
权利要求书2页说明书6页附图4页
(54)发明名称
像素阵列版图的制作方法及像素阵列的制
作方法
(57)摘要
CN109698212A本发明提供了一种像素阵列版图的制作方法和一种像素阵列的制作方法,通过减小原始周期性像素阵列版图的某一区域内的多个像素单元的面积来实现像素单元在平面空间上的随机分布/近似随机分布,且通过进一步对所述选取的区域内的所述感光单元的形状进行调整,以使同一所述像素单元的各所述感光单元所占面积比例不变,或按各所述感光单元的面积改变的比例调整与各所述感光单元对应的所述电容单元的面积,以形成目标像素阵列版图。由于形成的所述目标像素阵列版图的周期性遭到了破环,因此通过所述目标像素阵列版图形成目标像素阵列,并通过所述目标像素阵列形成图像传感器来
CN109698212A
提供一原始周期性像素阵列版图,所述原始周期性像素阵列版图包
提供一原始周期性像素阵列版图,所述原始周期性像素阵列版图包
括多个相互隔离的像素单元,每个所述像素单元包括四个感光单元
和与各所述感光相对应的电容单元
在所述原始周期性像素阵列版图上选取一区域,在选取的区域内选取多个像素单元并减小选取的所述像素单元的面积
对所述选取的区域内的所述感光单元的形状进行调整,以使同一所
述像素单元的各所述感光单元所占面积比例不变,或计算与所述原
始周期性像素阵列版图相比所述选取的区域内的各所述感光单元的
面积减小的比例,并按计算得到的各所述感光单元的面积减小的比
例调整与各所述感光单元对应的电容单元的面积,以形成目标像素
阵列版图。
S101
S102
S103
CN109698212A权利要求书1/2页
2
1.一种像素阵列版图的制作方法,其特征在于,包括:
提供一原始周期性像素阵列版图,所述原始周期性像素阵列版图包括多个相互隔离的像素单元,每个所述像素单元包括四个感光单元和与各所述感光单元相对应的电容单元;
在所述原始周期性像素阵列版图上选取一区域,在选取的区域内选取多个像素单元并减小选取的所述像素单元的面积;
对所述选取的区域内的所述感光单元的形状进行调整,以使同一所述像素单元的各所述感光单元所占面积比例不变,或计算与所述原始周期性像素阵列版图相比所述选取的区域内的各所述感光单元的面积减小的比例,并按计算得到的各所述感光单元的面积减小的比例调整与各所述感光单元对应的电容单元的面积,以形成目标像素阵列版图。
2.如权利要求1所述的像素阵列版图的制作方法,其特征在于,减小选取的所述像素单元的面积包括:
沿着选取的所述像素单元的第一边的垂线方向压缩选取的所述像素单元,使选取的所述像素单元中与所述第一边相邻的的第二边及第三边缩短,以使选取的所述像素单元的面积减小;或
朝着选取的所述像素单元的中心的方向收缩选取的所述像素单元的一个角,以使选取的所述像素单元的面积减小。
3.如权利要求1所述的像素阵列版图的制作方法,其特征在于,减小选取的所述像素单元的面积包括:
对选取的所述像素单元的一部分进行遮挡,以使选取的所述像素单元的面积减小,所述遮挡部分沿着选取的所述像素单元的一条边布置,或沿着选取的所述像素单元的一个角布置。
4.如权利要求1所述的像素阵列版图的制作方法,其特征在于,每个所述像素单元中的所有所述电容单元位于同一所述像素单元中的所有所述感光单元围合形成的区域内,在形成所述目标像素阵列版图的过程中,每个所述像素单元中的所有所述感光单元围合形成的区域大小不变。
5.如权利要求4所述的像素阵列版图的制作方法,其特征在于,对所述选取的区域内的所述感光单元的形状进行调整包括:
在每个所述像素单元中的所有所述感光单元围合形成的区域的外围添加辅助框,所述辅助框的形状和所述感光单元的形状保持一致,参照所述辅助框的边对所述感光单元的形状
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