CN109543351A 像素阵列版图的制作方法及像素阵列的制作方法 （上海集成电路研发中心有限公司）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN109543351A

(43)申请公布日2019.03.29

(21)申请号201811629405.6

(22)申请日2018.12.28

(71)申请人上海集成电路研发中心有限公司地址201210上海市浦东新区张江高科技

园区高斯路497号

(72)发明人伍强杨渝书李艳丽蒋亮亮朱鸣

(74)专利代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237

代理人郑星

(51)Int.CI.

GO6F17/50(2006.01)

H01L27/146(2006.01)

H01L27/02(2006.01)

HO4N5/335(2011.01)

权利要求书2页说明书6页附图4页

(54)发明名称

像素阵列版图的制作方法及像素阵列的制

作方法

(57)摘要

CN109543351A本发明提供了一种像素阵列版图的制作方法和一种像素阵列制作方法，通过改变原始周期性像素阵列版图的某一区域内的多个像素单元的大小来实现像素单元在平面空间上的随机分布/近似随机分布，且通过进一步对所述选取的区域内的所述感光单元的形状进行调整，以使同一所述像素单元的各所述感光单元所占面积比例不变，或按各所述感光单元的面积改变的比例调整与各所述感光单元对应的所述电容单元的面积，以形成目标像素阵列版图。由于形成的所述目标像素阵列版图的周期性遭到了破环，因此通过所述目标像素阵列版图形成的目标像素阵列用以形成图像传感器对周期性图像进行成像

CN109543351A

提供一原始周期性像素阵列版图，所述原始周期性像素阵列版图包

括多个相互隔离的像素单元，每个所述像素单元包括四

个感光单元和与各感光单元相对应的电容单元

在所述原始周期性像素阵列版图上选取一区域，在选取的区域内选

取多个所述像素单元并对选取的所述像素单元进行放大，放大的所

述像素单元不超出所述选取的区域的边缘

在所述选取的区域内，对与放大的所述像素单元发生重叠的未被选

取的所述像素单元的形状进行调整以使放大的所述像素单元和未被

选取的所述像素单元相互隔离

对所述选取的区域内的所述感光单元的形状进行调整，以使同一所

述像素单元的各所述感光单元所占面积比例不变，或计算与所述原

始周期性像素阵列版图相比所述选取的区域内的各所述感光单元的

面积改变的比例，并按计算得到的各所述感光单元的面积改变的比

例调整与各所述感光单元对应的电容单元的面积，以形成目标像素

阵列版图

S101

S102

S103

S104

CN109543351A权利要求书1/2页

2

1.一种像素阵列版图的制作方法，其特征在于，包括：

提供一原始周期性像素阵列版图，所述原始周期性像素阵列版图包括多个相互隔离的像素单元，每个所述像素单元包括四个感光单元和与各感光单元相对应的电容单元；

在所述原始周期性像素阵列版图上选取一区域，在选取的区域内选取多个所述像素单元并对选取的所述像素单元进行放大，放大的所述像素单元不超出所述选取的区域的边缘；

在所述选取的区域内，对与放大的所述像素单元发生重叠的未被选取的所述像素单元的形状进行调整以使放大的所述像素单元和未被选取的所述像素单元相互隔离；以及

对所述选取的区域内的所述感光单元的形状进行调整，以使同一所述像素单元的各所述感光单元所占面积比例不变，或计算与所述原始周期性像素阵列版图相比所述选取的区域内的各所述感光单元的面积改变的比例，并按计算得到的各所述感光单元的面积改变的比例调整与各所述感光单元对应的电容单元的面积，以形成目标像素阵列版图。

2.如权利要求1所述的像素阵列版图的制作方法，其特征在于，在所述选取的区域内，对与放大的所述像素单元发生重叠的未被选取的所述像素单元的形状进行调整包括：

若放大的所述像素单元与未被选取的所述像素单元的第一边及两个相邻的第二边发生重叠，则缩短两个所述第一边；

若放大的所述像素单元与未被选取的所述像素单元的角发生重叠，则收缩发生重叠的角。

3.如权利要求1所述的像素阵列版图的制作方法，其特征在于，在所述选取的区域内所选取的多个所述像素单元互不相邻。

4.如权利要求1所述的像素阵列版图的制作方法，其特征在于，每个所述像素单元中的所有所述电容单元位于同一所述像素单元中的所有所述感光单元围合形成的区域内，在形成所述目标像素阵列版图的过程中，每个所述像素