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- 2026-02-12 发布于重庆
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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN109817767A
(43)申请公布日2019.05.28
(21)申请号201811568350.2
(22)申请日2018.12.21
(71)申请人南京中电熊猫平板显示科技有限公司
地址210033江苏省南京市栖霞区南京液
晶谷天佑路7号
申请人南京中电熊猫液晶显示科技有限公
司
南京华东电子信息科技股份有限公
司
(72)发明人朱充沛高威周宇王贤娜
郁杰
(51)Int.CI.
H01L33/00(2010.01)
H01L33/20(2010.01)
权利要求书2页说明书7页附图5页
(54)发明名称
一种微型器件及其制作方法
(57)摘要
CN109817767A本发明提出一种微型器件及其制作方法,在形成该微型器件的外延层之前,先形成牺牲层并且对牺牲层进行图形化的处理。制作方法包括:S1、衬底上形成图形化的牺牲层;S2、所述牺牲层上形成外延层,一部分所述外延层形成在牺牲层上,其余所述外延层形成在缓冲层上;S3、移除牺牲层以及位于牺牲层上的外延层;S4、所述外延层上形成图形化的金属层,形成LED;S5、转移位于衬底上的LED,形成微型器件。本发明通过外延
CN109817767A
CN109817767A权利要求书1/2页
2
1.一种微型器件的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1、衬底上形成平坦化的缓冲层;
S2、在所述缓冲层上形成绝缘膜,对绝缘膜刻蚀形成具有多个阵列排布的镂空区域的牺牲层;
S3、在所述牺牲层上形成包括第一外延层和第二外延层的外延层,所述第一外延层形成在镂空区域内,所述第二外延层形成在牺牲层上;
S4、移除所述牺牲层以及位于牺牲层上的第二外延层;
S5、在所述第一外延层上形成第一金属层,所述第一外延层和第一金属层组成LED;
S6、转移所述LED并形成微型器件。
2.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述第一外延层和第二外延层互不连接。
3.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述第一外延层和第二外延层的厚度相同,所述牺牲层的厚度大于第一外延层的厚度。
4.一种微型器件的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1、在衬底上形成绝缘膜,对绝缘膜刻蚀形成具有多个阵列排布的镂空区域的牺牲层;
S2、在所述牺牲层上形成包括第一缓冲层和第二缓冲层的缓冲层,所述第一缓冲层形成在镂空区域内,所述第二缓冲层形成在牺牲层上;
S3、所述缓冲层上形成包括第一外延层和第二外延层的外延层,所述第一外延层形成在镂空区域内且形成在第一缓冲层上,所述第二外延层位于牺牲层上且形成在第二缓冲层上;
S4、移除所述牺牲层以及位于牺牲层上的第二缓冲层和第二外延层;
S5、在所述第一外延层上形成第一金属层,所述第一外延层和第一金属层组成LED;
S6、转移所述LED并形成微型器件。
5.根据权利要求4所述的制作方法,其特征在于,所述第一缓冲层和第二缓冲层互不连接,所述第一外延层和第二外延层互不连接。
6.根据权利要求4所述的制作方法,其特征在于,所述第一缓冲层和第二缓冲层的厚度相同,所述第一外延层和第二外延层的厚度相同,所述牺牲层的厚度大于第一缓冲层和第一外延层的总厚度。
7.根据权利要求1或4所述的制作方法,其特征在于,所述步骤S5进一步包括:
S51、在所述第一外延层上覆盖一层平坦化的光阻,图形化所述光阻,去除所述第一外延层上的光阻,形成光阻层;
S52、在所述第一外延层上形成第一金属层,一部分所述第一金属层形成在第一外延层上,其余所述第一金属层形成在光阻层上;
S53、移除所述光阻层以及位于光阻层上的第一金属层,所述衬底上形成多个所述LED。
8.根据权利要求7所述的制作方法,其特征在于,所述光阻层的厚度大于第一外延层和第一金属层的总厚度。
9.根据权利要求1或4所述的制作方法,其特征在于,所述步骤S6进一步包括:
S61、提供一涂布有一层粘合层的暂态基板,所述暂态基板通过粘合层与第一金属层粘合;
CN109817767A权利要求书2/2页
3
S62、解离所述衬底与缓冲层,移除所述缓冲层,多个LED形成在所述暂态基板上;
S63、解粘所述
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