CN1842747A 形成光学图像的方法、用于执行所述方法的设备以及使用所述方法制作装置的处理 (皇家飞利浦电子股份有限公司).docxVIP

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CN1842747A 形成光学图像的方法、用于执行所述方法的设备以及使用所述方法制作装置的处理 (皇家飞利浦电子股份有限公司).docx

[19]中华人民共和国国家知识产权局

[12]发明专利申请公开说明书

[21]申请号200480024417.6

[51]Int.Cl.

G03F7/20(2006.01)

GO3F1/14(2006.01)

[43]公开日2006年10月4日[11]公开号CN1842747A

[22]申请日2004.8.10

[21]申请号200480024417.6

[30]优先权

[32]2003.8.27[33]EP[313

[86]国际申请PCT/IB2004/0514342004.8.10

[87]国际公布WO2005/022265英2005.3.10

[85]进入国家阶段日期2006.2.24

[71]申请人皇家飞利浦电子股份有限公司地址荷兰艾恩德霍芬

[72]发明人J·H·A·范德里德特R·蒂默曼斯

[74]专利代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人刘红张志醒

权利要求书3页说明书13页附图3页

[54]发明名称

形成光学图像的方法、用于执行所述方法的设备以及使用所述方法制作装置的处理

[57]摘要

通过大量子照射在抗蚀剂层(5)中形成光学图像,在每个子照射中使用光阀阵列(21-25)和相应的光会聚元件阵列(40)在抗蚀剂层中形成斑点图案。在子照射之间,抗蚀剂层(5)相对于阵列(21-25,40)移动。测量所述抗蚀剂层(5)中的光学图像的比例,并且将该比例与需要写入的图像比例进行比较。如果它们之间存在差异,则物理改变光学会聚元件(43)之间的间隔以调节衬底比例。

200480024417.6权利要求书第1/3页

2

1.一种在辐射敏感层中形成光学图像的方法,所述方法包括下面的步骤:

提供辐射源(17);

提供辐射敏感层(5);

在所述辐射源(17)和所述辐射敏感层(5)之间定位多个单独控制的光阀(21-25);

在所述光阀(21-25)和所述辐射敏感层(5)之间定位包括多个辐射会聚元件(43)的光学元件(40),使得每个会聚元件(43)对应于一个不同的光阀(21-25),并且将来自对应光阀的辐射会聚到辐射敏感层(5)中的斑点区域上;

一方面,通过扫描所述层(5)在辐射敏感层区域中同时写入图像部分,另一方面,相关的光阀/会聚元件对彼此相对并且根据将被所述光阀(21-25)写入的图像部分在开和关状态之间切换每个光阀(21-25);所述方法的特征在于下面的步骤,

测量所述写入的图像部分,并且将其比例与通过光阀(21-25)需要写入的图像部分的对应图像比例进行比较,来确定在它们之间是否存在差异;如果存在差异,

调节所述图像比例,以便与所述测量的比例一致;

其中所述调节步骤包括物理改变彼此相对的一个或者多个相邻辐射会聚元件(43)之间的距离。

2.根据权利要求1的方法,其特征在于,物理改变彼此相对的一个或者多个相邻辐射会聚元件(43)之间距离的步骤包括向所述光学元件(40)施加压缩性的或者扩张性的力,以便分别将多个辐射会聚元件(43)彼此相向推进或者将它们分开。

3.根据权利要求1的方法,其特征在于,物理改变彼此相对的一个或者多个相邻辐射会聚元件(43)之间距离的步骤包括选择性地增加或者减少光学元件(40)的温度,以便分别扩张光学元件(40)并且增加所述辐射会聚元件之间的距离,或者压缩所述光学元件并且减小所述辐射会聚元件(43)之间的距离。

4.根据权利要求1到3中任一项所述的方法,其中布置会聚元件

200480024417.6权利要求书第2/3页

3

(43)以形成斑点的矩阵阵列。

5.根据权利要求1到4中任一项所述的方法,其中所述会聚元件

(43)包括折射透镜。

6.根据权利要求1到5中任一项所述的方法,其特征在于,在连续的子照射期间,所述辐射敏感层(5)与所述阵列彼此相对的移动一个距离,所述距离至多等于形成在辐射敏感层(5)中的斑点的尺寸.

7.根据权利要求1到6中任一项所述的方法,其特征在于,在图像特征边界处的斑点的强度适用于这个特征边界和邻近特征之间的距离。

8.根据权利要求1到7中任一项所述的方法,为了在衬底(3)中制作装置形成部

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