CN105645350A 一种微纳结构的制作装置及方法 （上海大学）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(43)申请公

(10)申请公布号CN105645350A布日2016.06.08

(21)申请号201610120002.3

(22)申请日2016.03.03

(71)申请人上海大学

地址200444上海市宝山区上大路99号

(72)发明人孟允王文冲张凯王海付群吴明红雷勇

(74)专利代理机构上海上大专利事务所(普通合伙)31205

代理人陆聪明

(51)Int.CI.

B81C1/00(2006.01)

权利要求书1页说明书2页附图2页

(54)发明名称

一种微纳结构的制作装置及方法

(57)摘要

CN105645350A本发明公开了一种微纳结构的制作装置及方法，它包括直线步进电机(1)、移动平台(2)、可移动挡板(3)、挡板支架(4)、底座(5)、电气控制装置(6),其方法，是先将载物固定在移动平台(2)上，然后向在未被遮挡载物的表面沉积第一种材料；利用电气控制装置(6)控制直线步进电机(1)带动装在移动平台(2)上的载物向未被遮挡的方向位移，然后再向在未被遮挡的，未沉积的载物表面上沉积第二种材料；取下移动平台(2)的载物，对第一种材料进行剥离处理，剥离后制得微纳结构。本发明能够在载物表面上的指定区域引入材料，提高原材料利用率，无需模板、低成本制作、流

CN105645350A

CN105645350A权利要求书1/1页

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1.一种微纳结构的制作装置，其特征在于，该装置包括直线步进电机(1)、移动平台(2)、可移动挡板(3)、挡板支架(4)、底座(5)、电气控制装置(6),其中，直线步进电机(1)固定于底座(5)上，直线步进电机(1)的螺母与移动平台(2)上的螺杆螺纹连接，可移动挡板(3)安装在挡板支架(4)上方，挡板支架(4)与底座(5)固定连接，电气控制装置(6)与直线步进电机(1)连接。

2.根据权利要求1所述的一种微纳结构的制作装置，其特征在于，所述的直线步进电机(1)的螺母与动移动平台(2)上的螺杆螺纹连接，采用螺杆和螺母相啮合，将直线步进电机(1)旋转转动转变为移动平台(2)的直线移动，实现移动平台(2)微米级的直线移动。

3.根据权利要求2所述的一种微纳结构的制作装置，其特征在于，所述的电气控制装置(6)由电源、逻辑程序器、开关元件以及变频脉冲源组成，该装置用于控制直线步进电机(1)转动，实现移动平台2的直线微动。

4.根据权利要求3所述的一种微纳结构的制作装置对应的成型方法，其特征在于，先将载物固定在移动平台(2)上，根据载物厚度调整可移动挡板(3)的高度，使可移动挡板(3)遮挡载物的部分表面；然后向在未被遮挡载物的表面沉积第一种材料；利用电气控制装置(6)控制直线步进电机(1)带动装在移动平台(2)上的载物向未被遮挡的方向位移，然后再向在未被遮挡的，未沉积的载物表面上沉积第二种材料；取下移动平台(2)的载物，对第一种材料进行剥离处理，剥离后制得微纳结构。

5.根据权利要求4所述的一种微纳结构的制造装置对应的成型方法，其特征在于，所述的沉积第一种材料或第二种材料是金、银、钛或铝中的一种。

6.根据权利要求5所述的一种微纳结构的制造装置对应的成型方法，其特征在于，所述的对载物上的第二种材料的剥离处理包括超声、浸泡或者在酸中腐蚀分离。

CN105645350A说明书1/2页

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一种微纳结构的制作装置及方法

技术领域

[0001]本发明涉及一种微纳制品成型装置及其成型方法，属于微纳器件成型领域。

背景技术

[0002]随着纳米技术的发展，微纳米系统、微纳米尺度零件及相关产品的需求越来越多。无论是微机电系统(MicroElectroMechanicalSystem,MEMS)零件的加工，还是微纳米功能结构的构造，都离不开微纳结构制造加工技术，随着前沿技术的不断突破，新的加工方法的不断产生和改进，极限制造技术必然成为现代加工技术的重点发展方向。

[0003]目前微纳结构加工技术主要包括光刻技术、纳米印压技术、电子(离子)束光刻技术、激光直写技术、激光打印技术、自组装技术等。其中光刻技术、纳米印压技术在加工过程中都需要使用