CN119668019A 光学临近修正优化方法、装置、存储介质及电子设备 （华芯程(杭州)科技有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119668019A

(43)申请公布日2025.03.21

(21)申请号202510201124.4

(22)申请日2025.02.24

(71)申请人华芯程（杭州）科技有限公司

地址310000浙江省杭州市余杭区良渚街

道网周路99号1幢22层2208室

(72)发明人舒中力

(74)专利代理机构深圳市嘉勤知识产权代理有限公司44651

专利代理师汤金燕

(51)Int.Cl.

G03F1/36(2012.01)

G03F7/20(2006.01)

G06F30/392(2020.01)

G06N5/01(2023.01)

权利要求书2页说明书8页附图4页

(54)发明名称

光学临近修正优化方法、装置、存储介质及

电子设备

(57)摘要

CN119668019A本申请公开了一种光学临近修正优化方法、装置、存储介质及电子设备，其中，该光学临近修正优化方法包括对原始版图进行分析，以确定原始版图中的待优化区域；将待优化区域中修正图层与目标图层之间的距离定义为修正变量；将所有修正变量的边缘位置误差的均方根误差定义为目标评价函数；基于目标评价函数，采用退火算法对所有修正变量进行优化，以得到目标修正变量组合；利用目标修正变量组合对原始版图进行修正，得到目标版图。本方