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CeO。@SiO2纳米复合磨料的制备及其对光学石英玻璃的抛光性能/陈 杨等 ·35 ·
CeO2@SiO2纳米复合磨料的制备及其对光学石英玻璃的抛光性能
陈 杨 ,隆仁伟 ,陈志刚
(1 江苏大学材料科学与工程学院,镇江 212013;2 常州大学材料科学与工程学院,常州 213164)
摘要 以无水乙醇为溶剂、氨水为催化剂,利用正硅酸乙酯水解所得的Si()2微球为内核,以硝酸亚铈为铈源、
六亚甲基四胺为沉淀剂,采用化学沉淀法制备了具有草莓状包覆结构的CeO2@SiOz复合颗粒。利用 X射线衍射
仪、透射电子显微镜、场发射扫描电镜、能谱仪、X射线光电子能谱仪、纳米激光粒度分布仪等对所制备样品的结构进
行了袁征。将所制备的包覆结构Ce02@Si()2复合磨料用于光学石英玻璃的化学机械抛光,采用原子力显微镜观察
了抛光表面的微观形貌,并测量了表面粗糙度。结果表明,所制备的Ce02@si02复合颗粒呈规则球形,粒度分布均
匀,粒径为 150~200nm,且具有明显的草莓状包覆结构,大量纳米ce02颗粒紧密包覆在si02表面。AFM测量结果
表明,抛光后玻璃表面划痕得到明显改善,在 10~/mX1Om范围内表面粗糙度RMS值由1.65nm降至0.484nm。
关键词 CeO2@si02复合磨料 包覆 石英玻璃 抛光
中图分类号:TB383 文献标识码:A
PreparationandPolishingPerformanceofCeO2@Si02CompositeAbrasives
CHEN Yang ,LONG Renwei,CHEN Zhigang
(1 SchoolofMaterialsScienceandEngineering,JiangsuUniversity,Zhe~iang212013;
2 DepartmentofMa terialsScienceandEngineering,ChangzhouUniversity,Changzhou213164)
Abstract Inabsoluteethanolsolvent,withammoniaascatalyst,Si02uhrafineparticlesarepreparedbyhy—
drolyzingtetraethyl0rthosilicate.Ce02@Si02core-shellcompositeparticlesaresynthesizedbychemicalprecipitation
techniquewithcerium nitrateascerium resource,hexamethylenetetramineasprecipitatingagent.As—preparedsamples
areanalyzedusingX-raydiffraction,transmissionelectronmicroscope,fieldemissionscanningelectronmicroscope,
energydispersiveanalysisofX-rays,X-rayphotoelectronspectrometer,dny amiclightscatteringanalyzer.Silicaglass
ispolishedbyCeCh@Si02compositeabrasives,andthepolishingperformanceofnovelcompositeabrasivesischarac—
terizedusingatomicforcemicroscope.TheresultsindicatethattheCe02@SiOzcompositeparticles(150~200nm in
diameter)haveanexcellentsphericalmorphologyanduniform particlesize.Ce0 nanoparticlescanbeuniformlycoa—
tedonthesurfaceofSi02
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