膜厚对四面体非晶碳膜机械性能的影响.pdfVIP

朱嘉琦 等：膜厚对四面体非晶碳膜机械性能的影响 2149 膜厚对四面体非晶碳膜机械性能的影响∗ 朱嘉琦，孟松鹤，韩杰才，高 巍 （哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所，黑龙江 哈尔滨 150001 ） 摘 要：采用过滤阴极真空电弧技术以相同的工艺条 量等机械性能的变化规律。 件在 p （100 ）单晶硅衬底上制备了不同厚度的四面 2 实 验 体非晶碳薄膜，并利用表面轮廓仪测试薄膜的厚度和 应力，利用纳米压入仪测试薄膜的硬度、杨氏模量和 2.1 试样制备 临界刮擦载荷。试验表明，在一定的扫描波形条件下， 采用离面双弯过滤阴极真空电弧（FCVA ）类金 薄膜大约以0.7 nm/s 的沉积速率稳定生长。随着膜厚 刚石薄膜沉积系统制备样品，实验原理详见文献[14]。 的增加，薄膜的应力持续降低，当膜厚超过30 nm 时， 沉积时，对衬底施加相同的直流脉冲负偏压（－80V ）， 应力将低于5GPa ；当膜厚超过300 nm 时，硬度和杨 固定脉冲频率 1500Hz ，脉宽25 µs ，从0~500s 改变 氏模量分别将近70GPa 和750GPa，已经十分接近体 沉积时间获得一组厚度不同的四面体非晶碳薄膜试 金刚石的性能指标。另外，随着膜厚增加所产生的应 样。利用光敏传感器定位的机械引弧机构每隔 15 s 力变化，也导致了可见光拉曼光谱非对称宽峰的峰位 定时强制触发电弧，确保高纯石墨阴极的靶面平整和 逐渐向低频偏移。 电弧的持续稳定燃烧。所有试验均采用相同的扫描波 关键词：四面体非晶碳；过滤阴极真空电弧；机械性 形，保证在直径250 mm 的沉积区域内膜厚均匀。除 能；应力 应力试样衬底采用厚度 0.5mm 直径 2 英寸的硅抛光 中图分类号：O461.2 文献标识码：A 片外，其它试样均采用同一批次厚度0.75mm 的P(100) 文章编号：1001-9731 （2004 ）增刊 单晶硅抛光片。厚度标样在沉积前用记号笔的衬底上 1 引 言 划一横线。沉积前，用丙酮超声清洗衬底 15min，并 用 Kaufman 氩离子枪刻蚀 5min ，固定氩气流量 四面体非晶碳（ta-C ）是含有较高比例四配位σ 8mL/min ，采用相同的电源参数。刻蚀时，用覆盖物 键（可达70 ％以上）的无氢类金刚石碳[1] ，具备许多 将厚度标样遮蔽。电弧电流设置为60A，沉积前本底 堪与金刚石晶体相媲美的优异性能，并在电子、机械、 真空度为 0.3mPa ，沉积时由于阴极放气真空度将有 国防和医疗等领域有着广阔的应用前景[2~5] 。四面体 所升高。 非晶碳薄膜一般采用激光、电弧和离子束等能量形式 2.2 薄膜表征 产生粒子束