薄膜的结构和电学特性研究.pdfVIP

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2017-09-12 发布于重庆
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薄膜的结构和电学特性研究.pdf

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年月重庆师范大学学报自然科学版２０１３５（）Ｍａ２０１３　ｙ第卷第期（）３０３ＪｏｕｒｎａｌｏｆＣｈｏｎｉｎＮｏｒｍａｌＵｎｉｖｅｒｓｉｔＮａｔｕｒａｌＳｃｉｅｎｃｅＶｏｌ．３０Ｎｏ．３ｇｑｇｙ：／ＤＯＩ１０．１１７２１ｃｎ　ｑｊ  共掺型薄膜的结构和电学特性研究ＮＩｎＺｎＯｐ，，，，，，，，１２１２１２３１２３１２３赵永红，孔春阳，秦国平，李万俊，阮海波，，，，，１２１２１２１２，，，孟祥丹卞萍徐庆张萍　　　（，，；重庆师范大学物理与电子工程学院光学工程重点实验室重庆１．４０１３３１，；重庆市光电功能材料重点实验室重庆２．４０１３３１重庆大学物理学院，重庆）３．４０１３３１摘要：采用射频磁控溅射技术在石英衬底上制备薄膜，以离子注入的方式进行掺杂，通过优化退火条件成ＺｎＯ∶ＩｎＮＮ功实现了薄膜的型转变研究发现在退火获得性能良好的薄膜其空穴浓ＺｎＯ∶ＩｎＮ。：５９０℃ ２０ｍｉｎＺｎＯ∶ＩｎＮ，ｐｐ    １８－３２－１－１度、迁移率和电阻率分别为（）、 · ·、 ·。结合