透光导电ITO膜的制备及其光电特性的研究论文.docVIP

1 78  31 卷  图1 Fi g .1 图2 Fi g .2  不同掺Sn 比率的I T0 膜的透射比 0ptical trans mittance ratio of I T0 fil ms wit h diff erent Sn dopi ng content 不同掺Sn 比率的I T0 膜的电阻率 Resisti vity of I T0 fil ms wit h diff erent Sn dopi ng content  图4 不同金属离子浓度的I T0 膜的电阻率 Fi g .4 Resisti vity of I T0 fil ms wit h metal ion concentration !. 不同提拉速度所镀I T0 膜光电特性的研究 用12 %Sn 溶胶，分别用5 种不同速度提拉出 的1 层，并在55 C 下加热1h 而制备的I T0 膜的 透射比和电阻率如图5 、图6 所示. !.! 不同金属离子浓度的I T0 膜光电特性研究 将7 %Sn 的溶胶分别稀释到原来金属离子浓 度的75 % 、 % 25 % 和12 .5 % ，在清洁处理的基 片用提拉法镀一层，并在55 C 下加热1h 而制备 I T0 膜的透射比和电阻率，见图3 、图4 所示. 图5 Fi g .5 不同提拉速度的I T0 膜的透射比 0ptical trans mitta