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化学液相淀积法制备氧化铝薄膜
摘 要
无机氧化物薄膜在现代微电子学、固体电子学和光学工程中有
广泛的应用。氧化物薄膜的制备已经成为凝聚态物理学的一个研究
热点。传统制各氧化物薄膜的方法包括热氧化、化学汽相淀积、金
属有机物化学汽相淀积、溶胶凝胶法等等。但是，这些方法大多要
求非常复杂的实验设备，而且不容易操作。一种新的制备氧化物薄
次提出。它可以在更为简单的实验条件下制备氧化物薄膜，因此引
起了人们的极大兴趣。但是，在全球范围内，化学液相淀积氧化铝
薄膜尚未被研究过。在本文中，我们将报导制备氧化铝薄膜的CLD
新方法。首先，我们先仔细研究了化学液相淀积氧化硅薄膜的过程
装置中的聚四氟乙烯生长室的实验装置系统，我们完成了化学液相
淀积氧化铝薄膜的实验过程。制备生长液所用的化学试剂包括
手段进行表征，结果显示制得的三氧化二铝薄膜表面均匀而平整，
化学组份纯正(不含氢元素)，而且属于高硬度的晶态超薄膜。
关键词：三氧化二铝薄膜，化学液相淀积(cLD)，水解过程。
化学液相淀积法制各氧化铝薄膜
Abstract
are
oxidefilms usedinmodern
Inorganic widely
fabrication
solid．state ofminoxide
electronics．opticalengineering．The
filmshasbecomeahot ofresearchin ofcondensedmatter．
spot physics
oxide
Traditionalmethodsof filmsincludethermal
manufacturing
oxidation，chemicalvaporphase chemical
methodandSO of
vaporphasedeposition，sol-gelon．However，mostthis
‘
一 一
very andarenot tomaneuver．A
processrequirecomplexequipment easy
of
new oxide
way coating--chemicalliquidphase
first eta1．in1988．ItCallmakethinoxidefilms
pioneeredbyNagayama
condifions
undermuch andthereforehasattracteda
simplerexperimentM
lotof havenotbeenstudiedallover
interest．However，CLD—A1，0{films
theworld．Inthis Dewmethodof films
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