一种稳定的腐蚀液研究.pdfVIP

ForumSolidState 8thChinaInternationalon Lighting 一种稳定的腐蚀液研究 闰晓红1，武胜利，郑远志，刘伟，刘琦 1 6600 1大连路美芯片科技有限公司，大连经济技术开发区黄海大道1号1 摘要：本文研究了王水．FeCh．壬水(含有缓冲莉)三种喁蚀液网|TO嗅的喝蚀速率、寓蚀后的表面形貌。以 及羽芯片电参数等影响。实验结果发现。壬水的舄蚀速率最快．分勘萄’。。0．15。瞌／Mln；Fecj3寓蚀液稻壬水 率司控．稳定。采黾壬水(含有缓冲韵)鹦蚀液购|TO膜喝蚀毛的芯片．具有较高的R良率， 关键谪t湿法喁蚀。／TO离蚀液．缓冲莉 引言 一、实验过程 (一)几种腐蚀液腐蚀ITO： LED被称为第四代照明光源或新一代绿色光源， 我们选择四片IR参数较好的蓝光外延片，反射率 具有高节能、利环保、寿命长、体积小、多变幻等， 3__o．1 在0．1 7之间(经验认为表面粗糙的外延片会影 响应快等特点，可以广泛应用于汽车、通讯、消费性 响腐蚀的均匀性，所以选择了反射率较低的光滑片) 电子、工业仪表、各种指示、显示、装饰、背光源、 蒸镀四片有ITO的晶圆，选用电子束蒸镀设备，使用 普通照明和城市亮化等领域。高亮度的蓝光LED与特 低密度ITO源蒸镀，ITO-薄膜主要是由高压电子束(电 殊的荧光粉物质组合产生橙黄色光，再与蓝光混合就 可以得到白光，GaN基LED的寿命可达到10万小时， 1)，同时通人一定流量的氧气，在高真空及30GC腔体 大约是白炽灯的1∞倍，而发光效率是白炽灯的510 环境下，使ITO源以气态的形式蒸镀至晶圆表面，形 倍，许多专家认为，LED将继第一代光源白炽灯，第 成ITO薄膜。工艺条件所制得的薄膜厚度为2．6nm； 二代光源荧光灯，第三代光源高强度气体放电灯，成 方块电阻为10(1／口；透光度在入=460nm，退火前大 为第四代照明光源。近年来，为了提高LED芯片的发 于85％。蒸镀的的厚度为2300a。使用光刻胶做掩膜， 光效率，人们在LED的内量子效率的提高和取光效率 选择Mesa图形进行曝光，显影。然后将做好的4片晶 方面做了大量的研发工作，随着其发光效率的提高， 圆放人不同种腐蚀液观察腐蚀速率。实验条件及结果 LED具有巨大的潜力成为次世代照明光源。在LED芯 如表(1)所示： 片制造中，直接用金属和半-,-9体接触容易形成高的肖 腐蚀液名称 腐蚀时问 温度 腐蚀速率 特基势垒，蒸镀金属的厚度太厚也会直接影响到LED 王水 Win 常温 1000A 光的透过率。最近发展出lTO透明导电材料，穿透率 王水(超声) 1rain 常温 1500A