Influence of deposition rate on the properties of ZrO2 thin films prepared in electron beam evaporation method.pdfVIP

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2017-08-26 发布于湖北
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Influence of deposition rate on the properties of ZrO2 thin films prepared in electron beam evaporation method.pdf

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维普资讯 364 CHINESEOPTICSLETTERS|Vo1．2No．6|June102004 Influenceofdeposition rateon thepropertiesof ZrO2thin filmsprepared in electronbeam evaporation m ethod _ DongpingZhang(张东平)，MeiqiongZhan (占美琼)，M ingFang(方明)， HongboHe(贺洪波)，JiandaShao (邵建迭)，andZhengxiuFan (范正修) RD CenterforOpticalThinFilm Coatings，ShanghaiInstituteofOpticsandFineMechanics ChineseScienceAcadem~ Shanghai201800 Received January8，2004 Zr0，thin filmswereprepared in electronbeam thermalevaporationmethod．Andthedeposition rate changedfrpin1．3to6．3nnl／sinourstudy．X—raydiffractometerandspectrophotometerwereemployedto characterizethefilms．X．raydiffraction fXRD1spectrapatternshowsthatfilmsstructurechangedfrpin am orphoustoDolvcrvstallinewith depositionrate increasing．Theresultsindicatethatinternalstresses ofthefilmsarecompressiveinmostcase．Thin film sdeposited inourstudyraeinhomogeneous，andthe inhomogeneityisenhancedwith thedeposition rateincreasing． oCIscodes：310．1860．310．6870． Due to itsattractive optica1properties．such as low purityO2gas(99，99％)wasusedtobackfil1thechamber absorption of1ight．high index ofrefraction and trans— to pressureof4x10— Pa duringdeposition to disrupt parentoverawidespectra1range，Zr0，isathin—fihn thesub—stoichiometryofZrO，films．Beofredeposition， materialofgreatinterestforoptica1applications[1一． thecoatingmaterialwasadequatethermallx‘degassed It isfrequently used asa high refractive—index mate— with ashutterblockingthevaporfrom thesamp