微波等离子体化学气相沉积金刚石光谱分析.pdfVIP

第34卷第6期 武 汉 工 程 大 学 学 报 Vo1．34 No．6 2012年06月 J． Wuhan Inst． Tech． Jun． 2012 文章编号：1674—2869(2012)06—0049—40 微波等离子体化学气相沉积金刚石光谱分析 马志斌，陶利平，翁国峰，严 垒 (武汉工程大学材料科学与工程学院，湖北省等离子体化学与新材料重点实验室，湖北 武汉430074) 摘 要：采用等离子体光谱分析微波等离子体化学气相 (MPCVD)沉积金刚石过程中基团的空间分布及甲烷 浓度变化时基团浓度的变化情况．实验过程 中分别测量 了氢原子的 H (656．19nm)、H (486．71am)和 H (434．56nm)谱线，以及基团CH(431．31nm)、C：(515．63nm)谱线．结果表明：氢原子和基团CH、C 的浓 度沿等离子体柱的径向先增加再减小．随着 甲烷浓度逐步增加 ，氢原子及基团CH、C，的浓度相应增加，其中 C 基团所受影响最大． 关键词：等离子体光谱；金刚石；基团；空间分布；甲烷浓度 中图分类号：TL65 文献标识码：A doi：10．3969／j．issn．1674-2869．2012．06．012 团CH ，CH 才是金刚石生长的前驱体，基团CH， 0 引 言 CH 是无定形碳的前驱体，是形核的关键．PaulC． 金刚石具有许多优异的性能，如高硬度、高热 Redfern等人认为基 团C，是金刚石薄膜生长的前 导率、高红外透过率、宽禁带 ¨j．其在工具、热学、 驱物 ． 光学、电子学等领域有诸多应用 J，如CVD金刚 相对其他沉积金刚石薄膜 的方法如DC电弧 石厚膜工具 ，金刚石薄膜涂层工具 ，金刚石热沉散 等离子体喷射 CVD和热丝 CVD，微波等离子体化 热片 ，MCM多芯片三维组装 ，光学窗 口，场效应 晶 学气相沉积 (MPCVD)具有不可 比拟的优势 ，如无 体管(FET)，辐射探测器，CVD金刚石膜冷阴极发 极放 电、高纯净度、宽气压范围稳定工作等 ¨．本 射，金刚石膜表面波(SAW)器件等．金刚石以其独 文采用MPCVD沉积金刚石薄膜 ，通过等离子体光 特的性能及广阔的应用前景一直备受瞩 目，但是 谱分析研究在沉积过程 中基团在等离子体 中的空 由于其制备成本昂贵，产品质量难以控制，所 以难 间分布和随 甲烷浓度变化时基团的变化情况 ，为 于达到大规模生产应用 ，至今无法替代硅材料成 进一步沉积高质量的金刚石薄膜提供基础． 为主导材料． 国内外研究学者对于金刚石薄膜生长进行过 1 实 验 大量研究 ，大部分集 中在装置研发和制备方式 以 实验装置采用 自行研制的压缩波导式微波等 及工艺对金刚石薄膜生长的影响 I4J．具体到沉 离子体装置 ，其微波频率为2．45GHz，最大功率为 积过程的反应机理相关研究较少，其主要原因是 1kW．装置主要 由微波发生器、反应腔、真空系统、 金刚石薄膜生长过程物理化学反应复杂．除此之 冷却系统以及进气控制系统组成．真空抽气系统 外由于实验装置和检测手段 的不 同，对于金刚石 主要采用机械泵，冷却系统采用循环水冷 ，进气流 薄膜沉积机理 的研究一直没有统一 的结论．如 量通过质量流量计控制，如图1．实验过程 中采用 JingbiaoCui等人认为基团CH与薄膜 中无定形碳 Mo基底沉积刚石薄膜．光谱测量采用OceanOptics 有关 ，基 团 CH 与金刚石相有关 ．M．J．Chi