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助 锨 财 许 2007年增刊(38)卷
两面顶低温超高压烧结纳米碳化硅的研究木
谢茂林,罗德礼,鲜晓斌,冷邦义,范辉
(中国工程物理研究院,表面物理与化学国家重点实验室,四川绵阳621907)
摘要:采用两面顶低温超高压(u二HP)技术在压力物相组成及显微结构等。
4.5GPa、温度(1250±50)℃、烧结时间20lIlin的条件
2实验
下烧结制备了纳米碳化硅(siC)陶瓷,研究了烧结体
的物相组成、化学成分、微观结构、显微硬度、纳米压 2.1 原料
痕力学性能等。结果表明,不添加烧结助剂且在较低温 D.SiC粉末为合肥开尔纳米有限公司生产(纯度
度下获得的SiC烧结体的相对密度高达98.4%,其显微
硬度达到HV3520:纳米压痕测试硬度高达H31.74GPa、
弹性模量即13GPa;烧结体的晶粒尺寸约为89nm,结
2.2制备过程
构致密,无气孔.
关键词: 两面顶;超高压;烧结;碳化硅 50目筛后再次经CIP压制成型素坯。素坯经高温真空
中图分类号: TB036+.5 文献标识码:A
文章编号: 1001.9731(2007)增刊.3790-03
装入包套。包套与适量食盐置入模压机中压制得
1 引 言
置入高压柱体(包套元件压制示意图如图l所示),采
现代国防、核能和空间技术及汽车工业、海洋工程 用LT.船烧结工艺(两面项技术制备SiC陶瓷的压力温
的迅速发展,迫切需要各种新型高性能结构材料。碳化 度示意图如图2所示)制备了黑色SiC陶瓷。
硅陶瓷具有高温强度大、抗氧化性强、耐磨损性好、热
膨胀系数小、硬度高以及抗热震和耐化学腐蚀等优良特
性,因此,已经在很多领域大显身手,并日益受到人们
的重视‘1。31。
然而,SiC是一种共价键性很强的化合物,其自扩
散系数极小,可烧结性很差。在传统的烧结工艺条件下,
如果不加入烧结助剂,纯SiC是很难烧结致密的。为了
获得致密的siC烧结体,必须采用siC细粉及添加适量
烧结助剂。烧结助剂的引入导致Sic陶瓷的许多性能受 图1 sic削备包套元件压制示意图
1 SketchofSiC andsintermodule
到影响,如高温力学性能等;此外,在引入烧结助剂的 Fig map press
情况下,SiC陶瓷的无压烧结温度和热压烧结温度仍在
1850℃以上,过高的温度导致SiC晶粒长大,也限制了 军
高性能陶瓷的获得【1—5I。在超高压力(lGPa)下的烧 专
结过程具有很多特点:首先高压下粉末颗粒间紧密的接 岛
触和局部的挤压有利于它们表面上原子的键合;其次, 暑
:
体系的高度压缩状态可以大大促进材料在烧结时的致 l
L
密化过程;再次,超高压在很大程度上改变了材料所处
的热力学状态,有可能形成新的高致密相结构或新的高 11me,mln
压化合物。这些特点对于具有高熔点,需要在高温下烧 图2 LP.m烧结制备sic压力温度工艺示意图
LP-HT
结的材料具有十分积极的意义陋引。 2Pr
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