δ掺杂阻止Fe-%2c21-Ni-%2c79-%2fCu多层膜界面的组分扩散的研究.pdfVIP

2．804 5 l 4 2 4 2 1 2● 713 5 0 4 16Samp01MI 2．670 2 —4 4 2 —5 l 4 2● 8 6O 一5 2 2 17 Samp01MI 2．579 5 0 l 2 2 2 4 2● 7 53 一5 2 3 18SampolMI 2．512 2 —2 6 2 —4 3 0 2● 472 3 3 4 19Samp01M] 2．460 2—2 0 2 —2 4 2 2● 3 O 6 0 0 20Samp0IMI 2．359 l 5 2 2 —4 3 4M 2● 3 9 2 2 6M2lSampOlMI 2．296 5 3 O 2 瑚鼢詈|炳州啪小 —5 3 2 2■ 28，42 一5 2 5 22Samp01MI Samp01MK 6掺杂阻止Fe：。Ni，。／Cu多层膜界面的组分扩散研究8 杨立吴小山谭伟石游彪盛雯婷林涛杜军胡安蒋树声 南京大学固体微结构物理国家重点实验室，南京210093 对磁性多层膜用作磁电阻传感器的一个重要的研究课题是获得在尽可能低的饱和场下 有大的磁电阻效应的结构材料【1—21．坡镆合金，铜(Py／Cu)多层膜或坡镇合金，铜，坡镆合金 (Py／Cu／Py)自旋阀结构是目前实现上述目标的最有力的材料。但是，坡镆合金与铜界面 之间的扩散严重限制TPy／Cu／Py自旋阀的实际应用。因此，表征和抑fNPy／Cu界面之间扩散 是一个重要的研究课题。6-Co掺杂的Py／Cu多层膜虽然可以阻止Py／Cu之间的扩散，但饱和 场很高f3·5】，本文试图在坡镆合金和铜的界面处插入6层金属Ta和Cr，进而来研究6掺杂后 的Py／Cu多层膜界面结构。 Py／Cu及5掺杂的Py／Cu多层膜样品是在南京大学用磁控溅射方法制备的。真空室的背 景真空度为5×101乇，溅射功率为75瓦，溅射用Ar气氛，溅射气压为1Pa。用文献6的方 法，我们在si村底上制各了3种标称参数的多层膜样品：即 ( 1# ， 3 块 ) 、 Ta(50A)／[Py(15A)／Cu(14A)]30／Ta(50A)共 (2#，共 3 块) Ta(50A)／[Py(15A)／Ta(1A)／Cu(12A)／Ta(1A)]”／Ta(50A)及 多层膜界面的组分扩散，我们用X射线镜面反射、偏置镜面反射及横向漫散射技术测量其镜 面反射率与横向漫散射产额，运用衍射动力学理论(DWBA)进行拟合，以获得界面的有关信 。田采自然科学基金盗助项目(№i0】74030 息。 X射线反射、散射实验是在实验室x射线衍射仪的标准薄膜附件上进行的。图i是l# 与2#样品的x射线镜面反射、偏置镜面反射的实验曲线和理论拟合曲线。 (sQo一卫cjoo Scatter Scatter Angle(arc) Angle(arc) 田1-l’ICu与6叶a’杂的PT／Cu的■面反射事实验曲缱与理论拟合曲战． 从图1的可以看出，拟合曲线与实验结构很好地吻合，这表明拟合结果是可信的。表1 给出了3类样品的镜面反射率拟合参数。从拟合参数看，各子屡的厚度与实验设计值在5％ 范围内是吻合的，所用衬底材料表面有很好的光洁度